Tere tulemast ettevõttesse Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Uudised
-
Pihustuskatte masina protsessi voog
1. Aluspinna pommitamine 1.1) Pihustuskatmismasin puhastab aluspinda hõõglahendusega. See tähendab, et argoongaas laaditakse kambrisse, tühjenduspinge on umbes 1000 V. Pärast toite sisselülitamist tekib hõõglahendus ja aluspind puhastatakse ...Loe edasi -
Optilise kile kasutamine mobiiltelefonide toodetes
Optiliste õhukeste kilede kasutamine tarbeelektroonikatoodetes, näiteks mobiiltelefonides, on nihkunud traditsioonilistest kaameraobjektiividest mitmekesisemasse suunda, näiteks kaameraobjektiivid, objektiivikaitsed, infrapunakiirguse filtrid (IR-CUT) ja NCVM-kate mobiiltelefonide akukatetel. Kaamera eripära...Loe edasi -
CVD-katteseadmete omadused
CVD-katmistehnoloogial on järgmised omadused: 1. CVD-seadmete tööprotsess on suhteliselt lihtne ja paindlik ning sellega saab valmistada erineva proportsiooniga üksik- või komposiitkilesid ja sulamkilesid; 2. CVD-kattel on lai valik rakendusi ja seda saab kasutada ...Loe edasi -
Millised on vaakumkatmismasina protsessid? Milline on tööpõhimõte?
Vaakumkatmismasina protsess jaguneb vaakumaurustuskatmiseks, vaakumpihustuskatmiseks ja vaakumioonkatmiseks. 1. Vaakumaurustuskatmine Vaakumi tingimustes aurustatakse materjal, näiteks metall, metallisulam jne, ja seejärel sadestatakse see aluspinnale...Loe edasi -
Milleks vaakummasin on mõeldud?
1. Mis on vaakumkatmisprotsess? Mis on selle funktsioon? Nn vaakumkatmisprotsess kasutab aurustamist ja pihustamist vaakumkeskkonnas, et eraldada kilematerjali osakesi, mis sadestuvad metallile, klaasile, keraamikale, pooljuhtidele ja plastdetailidele kattekihi moodustamiseks dekoreerimiseks...Loe edasi -
Vaakumkatmisseadmete keskkonnanõuded
Kuna vaakumkatmisseadmed töötavad vaakumi tingimustes, peavad seadmed vastama keskkonna vaakumi nõuetele. Minu riigis välja töötatud erinevat tüüpi vaakumkatmisseadmete tööstusstandardid (sealhulgas vaakumkatmisseadmete üldised tehnilised tingimused,...Loe edasi -
Ioonpindamise omadused ja rakendamine
Kile tüüp Kilematerjal Alusmaterjal Kile omadused ja kasutamine Metallkile CrAI, ZnPtNi Au, Cu, AI P, Au Au, W, Ti, Ta Ag, Au, AI, Pt-teras, pehme terasTitaanisulam, kõrge süsinikusisaldusega teras, pehme terasTitaanisulamklaasplast Nikkel, Inconelteras, roostevaba teras Silikoon Kulumiskindel ...Loe edasi -
Vaakumioonkate ja selle klassifikatsioon
Vaakumioonkatmine (lühidalt ioonkatmine) on uus pinnatöötlustehnoloogia, mis arenes kiiresti 1970. aastatel ja mille pakkus välja DM Mattox Somdia Companyst Ameerika Ühendriikides 1963. aastal. See viitab protsessile, kus aurustusallikat või pihustusmärki kasutatakse aurutamiseks või pihustamiseks...Loe edasi -
Optilise katmismasinaga saab katta mitu optilist kile
① Peegeldusvastane kile. Näiteks kaamerad, slaidiprojektorid, projektorid, filmiprojektorid, teleskoobid, vaateklaasid ja ühekihilised MgF2-kiled, mis on kantud mitmesuguste optiliste instrumentide läätsedele ja prismadele, ning kahe- või mitmekihilised lairiba peegeldusvastased kiled, mis koosnevad SiOFrO2-st, AlO3-st, ...Loe edasi -
Pihustuskattekilede omadused
① Kile paksuse hea juhitavus ja korduvus Seda, kas kile paksust saab etteantud väärtusel reguleerida, nimetatakse kile paksuse juhitavuseks. Nõutavat kile paksust saab korrata mitu korda, mida nimetatakse kile paksuse korduvuseks. Kuna tühjendus...Loe edasi -
Keemilise aurustamise (CVD) tehnoloogia lühitutvustus
Keemilise aurustamise (CVD) tehnoloogia on kile moodustamise tehnoloogia, mis kasutab kuumutamist, plasma võimendamist, fotoassistentset ja muid vahendeid, et gaasilised ained tekitaksid substraadi pinnale tahkeid kilesid keemilise reaktsiooni kaudu normaal- või madalrõhul. Üldiselt toimub reaktsioon...Loe edasi -
Vaakumaurustamise pindamise toimivust mõjutavad tegurid
1. Aurustumiskiirus mõjutab aurustunud katte omadusi Aurustumiskiirusel on suur mõju sadestunud kilele. Kuna madala sadestumiskiiruse tõttu moodustunud katte struktuur on lahtine ja suurte osakeste sadestamine on lihtne, on väga ohutu valida suurem aurustumiskiirus ...Loe edasi -
Millised on vaakumkatmisseadmete saasteallikad?
Vaakumkatmisseade koosneb paljudest täpsetest osadest, mis on valmistatud mitmete protsesside abil, nagu keevitamine, lihvimine, treimine, hööveldamine, puurimine, freesimine jne. Nende tööde tõttu saastub seadme osade pind paratamatult mõne saasteainega, näiteks rasvaga...Loe edasi -
Millised on vaakumkatmisprotsessi nõuded rakenduskeskkonnale?
Vaakumkatmisprotsessil on rakenduskeskkonnale ranged nõuded. Tavapärase vaakumprotsessi peamised vaakumpuhastusnõuded on järgmised: vaakumis olevate seadmete osadele ega pinnale ei tohi koguneda saasteallikat, vaakumkambri pind...Loe edasi -
Mis on ioonplaadistusmasina tööpõhimõte?
Ioonkatmismasin sai alguse DM Mattoxi 1960. aastatel välja pakutud teooriast ja vastavad katsed algasid sel ajal; Kuni 1971. aastani avaldasid Chambers ja teised elektronkiire ioonkatmise tehnoloogia; Reaktiivse aurustamise (ARE) tehnoloogiat toodi välja Bu...Loe edasi
