Bine ați venit la Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Ştiri
-
Fluxul de proces al mașinii de acoperire prin pulverizare
1. Curățarea substratului prin bombardament 1.1) Mașina de acoperire prin pulverizare utilizează descărcarea luminiscentă pentru a curăța substratul. Adică, se încarcă gazul argon în cameră, tensiunea de descărcare fiind de aproximativ 1000V. După pornirea alimentării, se generează o descărcare luminiscentă, iar substratul este curățat prin...Citeşte mai mult -
Aplicarea peliculei optice în produsele de telefonie mobilă
Aplicarea peliculelor optice subțiri în produsele electronice de larg consum, cum ar fi telefoanele mobile, s-a mutat de la obiectivele tradiționale ale camerelor la o direcție diversificată, cum ar fi lentilele camerelor, protecțiile pentru lentile, filtrele de decuplare a infraroșului (IR-CUT) și acoperirea cu NCVM pe capacele bateriilor telefoanelor mobile. Specificațiile camerelor...Citeşte mai mult -
Caracteristicile echipamentelor de acoperire CVD
Tehnologia de acoperire CVD are următoarele caracteristici: 1. Operarea echipamentului CVD este relativ simplă și flexibilă și poate prepara pelicule simple sau compozite și pelicule din aliaje cu diferite proporții; 2. Acoperirea CVD are o gamă largă de aplicații și poate fi utilizată pentru a...Citeşte mai mult -
Care sunt procesele mașinii de acoperire în vid? Care este principiul de funcționare?
Procesul mașinii de acoperire în vid este împărțit în: acoperire prin evaporare în vid, acoperire prin pulverizare în vid și acoperire cu ioni în vid. 1. Acoperire prin evaporare în vid. În condiții de vid, se evaporă materialul, cum ar fi metalul, aliajul metalic etc., apoi se depune pe suprafața substratului...Citeşte mai mult -
La ce folosește mașina de aspirat?
1. Ce este procesul de acoperire în vid? Care este funcția? Așa-numitul proces de acoperire în vid utilizează evaporarea și pulverizarea catodică într-un mediu de vid pentru a emite particule de material de film, depuse pe metal, sticlă, ceramică, semiconductori și piese din plastic pentru a forma un strat de acoperire, pentru decor...Citeşte mai mult -
Cerințe de mediu pentru echipamentele de acoperire în vid
Întrucât echipamentele de acoperire în vid funcționează în condiții de vid, acestea trebuie să îndeplinească cerințele de vid pentru mediu. Standardele industriale pentru diferite tipuri de echipamente de acoperire în vid formulate în țara mea (inclusiv condițiile tehnice generale pentru echipamentele de acoperire în vid,...Citeşte mai mult -
Caracteristicile și aplicațiile de placare ionica
Tip de film Material film Substrat Caracteristicile și aplicarea filmului Film metalic CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt oțel, oțel moaleAliaj de titan, oțel cu conținut ridicat de carbon, oțel moaleAliaj de titansticlă durăplastic Nichel, oțel Inconel, oțel inoxidabil siliciu Anti-uzură ...Citeşte mai mult -
Acoperirea cu ioni în vid și clasificarea acesteia
Placarea ionică în vid (pe scurt, placare ionică) este o nouă tehnologie de tratare a suprafețelor, dezvoltată rapid în anii 1970, propusă de DM Mattox de la compania Somdia din Statele Unite în 1963. Se referă la procesul de utilizare a unei surse de evaporare sau a unei ținte de pulverizare pentru a evapora sau pulveriza...Citeşte mai mult -
Mașina de acoperire optică poate fi utilizată pentru acoperirea mai multor pelicule optice
① Folie antireflexie. De exemplu, camere foto, proiectoare de diapozitive, proiectoare, proiectoare de filme, telescoape, vizoare și pelicule MgF cu un singur strat aplicate pe lentile și prisme ale diferitelor instrumente optice și pelicule antireflexie cu bandă largă cu două sau mai multe straturi, compuse din SiOFrO2, AlO, ...Citeşte mai mult -
Caracteristicile peliculelor de acoperire prin pulverizare catodică
① Controlabilitate și repetabilitate bune ale grosimii peliculei. Controlul grosimii peliculei la o valoare predeterminată se numește controlabilitate a grosimii peliculei. Grosimea necesară a peliculei poate fi repetată de mai multe ori, ceea ce se numește repetabilitate a grosimii peliculei. Deoarece descărcarea...Citeşte mai mult -
Scurtă introducere a tehnologiei de depunere chimică în fază de vapori (CVD)
Tehnologia depunerii chimice din vapori (CVD) este o tehnologie de formare a peliculei care utilizează încălzirea, intensificarea plasmei, fotoasistarea și alte mijloace pentru a face ca substanțele gazoase să producă pelicule solide pe suprafața substratului prin reacție chimică la presiune normală sau scăzută. În general, reacția în...Citeşte mai mult -
Factorii care afectează performanța plăcilor prin evaporare în vid
1. Rata de evaporare va afecta proprietățile stratului de acoperire evaporat. Rata de evaporare are o influență mare asupra peliculei depuse. Deoarece structura stratului de acoperire formată prin rata de depunere scăzută este liberă și produce ușor depuneri de particule mari, este foarte sigur să alegeți o evaporare mai mare...Citeşte mai mult -
Care sunt sursele de poluare ale echipamentelor de acoperire în vid
Echipamentul de acoperire în vid este compus din multe piese precise, care sunt realizate prin diverse procese, cum ar fi sudarea, șlefuirea, strunjirea, rindeluirea, găurirea, frezarea și așa mai departe. Din cauza acestor lucrări, suprafața pieselor echipamentului va fi inevitabil contaminată cu anumiți poluanți, cum ar fi grăsimea...Citeşte mai mult -
Care sunt cerințele procesului de acoperire în vid în mediul de aplicare
Procesul de acoperire în vid are cerințe stricte pentru mediul de aplicare. Pentru procesul convențional de vid, principalele cerințe pentru igienizarea în vid sunt: nu există nicio sursă de poluare acumulată pe piesele sau suprafața echipamentului în vid, suprafața camerei de vid...Citeşte mai mult -
Care este principiul de funcționare al mașinii de placare ionică
Mașina de acoperire cu ioni își are originea în teoria propusă de DM Mattox în anii 1960, iar experimentele corespunzătoare au început la acea vreme; Până în 1971, Chambers și alții au publicat tehnologia de placare cu ioni cu fascicul de electroni; Tehnologia de placare cu evaporare reactivă (ARE) a fost evidențiată în Bu...Citeşte mai mult
