1. Почистване на субстрата чрез бомбардиране 1.1) Машината за разпрашително покритие използва тлеещ разряд за почистване на субстрата. Това означава, че зарежда аргоновия газ в камерата, напрежението на разряд е около 1000V. След включване на захранването се генерира тлеещ разряд и субстратът се почиства чрез ...
Приложението на оптични тънки слоеве в потребителската електроника, като например мобилни телефони, се е изместило от традиционните обективи за камери към диверсифицирана посока, като например обективи за камери, протектори за обективи, филтри за инфрачервено изключване (IR-CUT) и NCVM покритие върху капаци за батерии на мобилни телефони. Специалитетът на камерата...
Технологията за CVD покритие има следните характеристики: 1. Процесът на работа на CVD оборудването е сравнително прост и гъвкав и може да приготвя единични или композитни филми и сплавни филми с различни пропорции; 2. CVD покритието има широк спектър от приложения и може да се използва за предварителна...
Процесът на вакуумно покритие се разделя на: вакуумно изпарително покритие, вакуумно разпрашително покритие и вакуумно йонно покритие. 1. Вакуумно изпарително покритие. При вакуумно условие материалът, като метал, метална сплав и др., се изпарява, след което се отлага върху повърхността на субстрата...
1. Какво представлява процесът на вакуумно покритие? Каква е функцията му? Така нареченият процес на вакуумно покритие използва изпаряване и разпрашване във вакуумна среда, за да отдели частици от филмов материал, отложени върху метал, стъкло, керамика, полупроводници и пластмасови части, за да образува покривен слой, за декорация...
Тъй като оборудването за вакуумно покритие работи във вакуумни условия, то трябва да отговаря на изискванията за вакуум за околната среда. Индустриалните стандарти за различни видове оборудване за вакуумно покритие, формулирани в моята страна (включително общи технически условия за оборудване за вакуумно покритие,...
Вакуумното йонно покритие (накратко йонно покритие) е нова технология за повърхностна обработка, която се развива бързо през 70-те години на миналия век и е предложена от DM Mattox от Somdia Company в Съединените щати през 1963 г. Тя се отнася до процеса на използване на източник на изпарение или разпрашителна мишена за изпаряване или разпръскване...
① Антирефлексно фолио. Например, камери, диапроектори, проектори, филмови проектори, телескопи, зрителни стъкла и еднослойни MgF2 фолиа, нанесени върху лещи и призми на различни оптични инструменти, както и двуслойни или многослойни широколентови антирефлексни фолиа, съставени от SiOFrO2, AlO, ...
① Добра управляемост и повторяемост на дебелината на филма. Дали дебелината на филма може да се контролира до предварително определена стойност се нарича управляемост на дебелината на филма. Необходимата дебелина на филма може да се повтаря многократно, което се нарича повторяемост на дебелината на филма. Тъй като разрядът...
Технологията за химическо отлагане от пари (CVD) е технология за образуване на филм, която използва нагряване, плазмено усилване, фотоасистиране и други средства, за да накара газообразни вещества да образуват твърди филми върху повърхността на субстрата чрез химическа реакция при нормално или ниско налягане. Обикновено реакцията в...
1. Скоростта на изпаряване ще повлияе върху свойствата на изпареното покритие. Скоростта на изпаряване има голямо влияние върху отложения филм. Тъй като структурата на покритието, образувана при ниска скорост на отлагане, е рохкава и лесно се отлагат големи частици, е много безопасно да се избере по-висока скорост на изпаряване...
Оборудването за вакуумно покритие е съставено от много прецизни части, които се изработват чрез различни процеси, като заваряване, шлайфане, струговане, рендосване, пробиване, фрезоване и т.н. Поради тези дейности повърхността на частите на оборудването неизбежно ще бъде замърсена с някои замърсители, като например мазнини...
Процесът на вакуумно покритие има строги изисквания към средата на приложение. За конвенционалния вакуумен процес основните изисквания за вакуумна санитария са: да няма натрупан източник на замърсяване върху частите или повърхността на оборудването във вакуума, повърхността на вакуумната камера...
Машината за йонно покритие произхожда от теорията, предложена от Д. М. Матокс през 60-те години на миналия век, и съответните експерименти започват по това време; До 1971 г. Чембърс и други публикуват технологията за електроннолъчево йонно покритие; Технологията за реактивно изпарително покритие (ARE) е посочена в Бу...