Benvinguts a Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Notícies
-
Flux del procés de la màquina de recobriment per pulverització catòdica
1. Neteja del substrat per bombardeig 1.1) La màquina de recobriment per pulverització catòdica utilitza descàrrega luminescent per netejar el substrat. És a dir, carrega el gas argó a la cambra, la tensió de descàrrega és d'uns 1000 V. Després d'encendre la font d'alimentació, es genera una descàrrega luminescent i el substrat es neteja mitjançant...Llegir més -
Aplicació de pel·lícules òptiques en productes de telefonia mòbil
L'aplicació de pel·lícules primes òptiques en productes d'electrònica de consum com ara els telèfons mòbils ha passat de les lents de càmera tradicionals a una direcció diversificada, com ara lents de càmera, protectors de lents, filtres de tall d'infrarojos (IR-CUT) i recobriment NCVM en cobertes de bateries de telèfons mòbils. Càmera...Llegir més -
Característiques dels equips de recobriment CVD
La tecnologia de recobriment CVD té les següents característiques: 1. El funcionament del procés de l'equip CVD és relativament senzill i flexible, i pot preparar pel·lícules individuals o compostes i pel·lícules d'aliatge amb diferents proporcions; 2. El recobriment CVD té una àmplia gamma d'aplicacions i es pot utilitzar per pre...Llegir més -
Quins són els processos de la màquina de recobriment al buit? Quin és el principi de funcionament?
El procés de la màquina de recobriment al buit es divideix en: recobriment per evaporació al buit, recobriment per polvorització al buit i recobriment per ions al buit. 1. Recobriment per evaporació al buit. En condicions de buit, es fa evaporar el material, com ara el metall, l'aliatge metàl·lic, etc., i després es diposita sobre la superfície del substrat...Llegir més -
Per a què serveix la màquina de buit?
1. Què és el procés de recobriment al buit? Quina és la seva funció? El procés de recobriment al buit utilitza l'evaporació i la polvorització en un entorn de buit per emetre partícules de material de pel·lícula. Es dipositen sobre metall, vidre, ceràmica, semiconductors i peces de plàstic per formar una capa de recobriment per a la decoració...Llegir més -
Requisits ambientals per a equips de recobriment al buit
Com que l'equip de recobriment al buit funciona en condicions de buit, l'equip ha de complir els requisits de buit per al medi ambient. Els estàndards de la indústria per a diversos tipus d'equips de recobriment al buit formulats al meu país (incloses les condicions tècniques generals per als equips de recobriment al buit,...Llegir més -
Les característiques i l'aplicació del recobriment iònic
Tipus de pel·lícula Material de la pel·lícula Substrat Característiques i aplicació de la pel·lícula Pel·lícula metàl·lica CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Acer Pt, acer suauAliatge de titani, acer amb alt contingut en carboni, acer suauAliatge de titaniVidre durPlàstic Níquel, acer Inconel, acer inoxidableSilici Antidesgast...Llegir més -
Recobriment d'ions al buit i la seva classificació
El recobriment iònic al buit (recobriment iònic per abreujar) és una nova tecnologia de tractament de superfícies que es va desenvolupar ràpidament a la dècada de 1970, que va ser proposada per DM Mattox de Somdia Company als Estats Units el 1963. Es refereix al procés d'utilitzar una font d'evaporació o un objectiu de pulverització catòdica per evaporar o polvoritzar...Llegir més -
La màquina de recobriment òptic es pot utilitzar per recobrir múltiples pel·lícules òptiques
① Pel·lícula antireflectant. Per exemple, càmeres, projectors de diapositives, projectors, projectors de pel·lícules, telescopis, mires i pel·lícules de MgF d'una sola capa recobertes sobre lents i prismes de diversos instruments òptics, i pel·lícules antireflectants de banda ampla de doble o multicapa compostes de SiOFrO2, AlO, ...Llegir més -
Característiques de les pel·lícules de recobriment per pulverització catòdica
① Bona controlabilitat i repetibilitat del gruix de la pel·lícula Si el gruix de la pel·lícula es pot controlar a un valor predeterminat s'anomena controlabilitat del gruix de la pel·lícula. El gruix de la pel·lícula requerit es pot repetir moltes vegades, cosa que s'anomena repetibilitat del gruix de la pel·lícula. Com que la descàrrega...Llegir més -
Breu introducció a la tecnologia de deposició química de vapor (CVD)
La tecnologia de deposició química de vapor (CVD) és una tecnologia de formació de pel·lícules que utilitza la calefacció, la millora del plasma, la fotoassistència i altres mitjans per fer que les substàncies gasoses produeixin pel·lícules sòlides a la superfície del substrat mitjançant una reacció química a pressió normal o baixa. Generalment, la reacció en...Llegir més -
Factors que afecten el rendiment del recobriment per evaporació al buit
1. La velocitat d'evaporació afectarà les propietats del recobriment evaporat La velocitat d'evaporació té una gran influència en la pel·lícula dipositada. Com que l'estructura del recobriment formada per una baixa velocitat de deposició és fluixa i fàcil de produir una deposició de partícules grans, és molt segur triar una evaporació més alta...Llegir més -
Quines són les fonts de contaminació dels equips de recobriment al buit
L'equip de recobriment al buit està compost per moltes peces precises, que es fabriquen mitjançant molts processos, com ara soldadura, rectificat, tornejat, planejat, perforat, fresat, etc. A causa d'aquests treballs, la superfície de les peces de l'equip inevitablement es contaminarà amb alguns contaminants com ara greixos...Llegir més -
Quins són els requisits del procés de recobriment al buit en l'entorn d'aplicació
El procés de recobriment al buit té requisits estrictes per a l'entorn d'aplicació. Per al procés de buit convencional, els seus principals requisits per a la higienització al buit són: no hi ha cap font de contaminació acumulada a les peces o a la superfície de l'equip al buit, la superfície de la cambra de buit...Llegir més -
Quin és el principi de funcionament de la màquina de revestiment iònic
La màquina de recobriment iònic es va originar a partir de la teoria proposada per DM Mattox a la dècada de 1960, i els experiments corresponents van començar en aquell moment; Fins al 1971, Chambers i altres van publicar la tecnologia de recobriment iònic amb feix d'electrons; La tecnologia de recobriment per evaporació reactiva (ARE) es va assenyalar al Bu...Llegir més
