Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости
-
Вакуумное ионное напыление и его классификация
Вакуумное ионное напыление (сокращенно ионное напыление) — это новая технология обработки поверхностей, быстро развивавшаяся в 1970-х годах. Она была предложена Д.М. Маттоксом из компании Somdia в США в 1963 году. Речь идет о процессе использования источника испарения или мишени для распыления с целью испарения или распыления...Читать далее -
Установка для нанесения оптических покрытий может использоваться для нанесения покрытий на несколько оптических пленок.
① Антиотражающая пленка. Например, фотоаппараты, слайд-проекторы, проекторы, кинопроекторы, телескопы, смотровые стекла и однослойные пленки MgF, нанесенные на линзы и призмы различных оптических приборов, а также двухслойные или многослойные широкополосные антиотражающие пленки, состоящие из SiOFrO2, AlO, ...Читать далее -
Характеристики пленок, полученных методом магнетронного распыления.
① Хорошая управляемость и воспроизводимость толщины пленки. Возможность контролировать толщину пленки до заданного значения называется управляемостью толщины пленки. Возможность многократного повторения требуемой толщины пленки называется воспроизводимостью толщины пленки. Поскольку разряд...Читать далее -
Краткое введение в технологию химического осаждения из газовой фазы (CVD).
Технология химического осаждения из газовой фазы (CVD) — это технология формирования пленок, которая использует нагрев, усиление плазмы, фотостимуляцию и другие методы для образования твердых пленок из газообразных веществ на поверхности подложки посредством химической реакции при нормальном или низком давлении. Как правило, реакция в...Читать далее -
Факторы, влияющие на эффективность вакуумного напыления.
1. Скорость испарения влияет на свойства напыляемого покрытия. Скорость испарения оказывает большое влияние на осажденную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная при низкой скорости осаждения, рыхлая и легко образует крупные частицы, целесообразно выбирать более высокую скорость испарения…Читать далее -
Каковы источники загрязнения оборудования для вакуумного напыления?
Оборудование для вакуумного напыления состоит из множества прецизионных деталей, изготовленных с помощью различных технологических процессов, таких как сварка, шлифовка, токарная обработка, строгание, расточка, фрезерование и т. д. В результате этих работ поверхность деталей оборудования неизбежно загрязняется различными веществами, такими как смазка...Читать далее -
Каковы требования к процессу вакуумного напыления в условиях его применения?
Процесс вакуумного напыления предъявляет строгие требования к условиям эксплуатации. Для традиционного вакуумного процесса основными требованиями к вакуумной санитарии являются: отсутствие источников загрязнения на деталях или поверхности оборудования в вакууме, а также чистота поверхности вакуумной камеры...Читать далее -
В чём принцип работы установки ионного осаждения?
Установка для ионного нанесения покрытий возникла из теории, предложенной Д.М. Маттоксом в 1960-х годах, и соответствующие эксперименты начались в то же время; до 1971 года Чемберс и другие опубликовали технологию ионного нанесения покрытий электронным пучком; технология реактивного испарения (ARE) была описана в Бу...Читать далее -
Классификация и применение оборудования для вакуумного напыления
Быстрое развитие вакуумных лакокрасочных машин в современную эпоху обогатило разнообразие их типов. Далее рассмотрим классификацию покрытий и отрасли, в которых применяются лакокрасочные машины. Прежде всего, наши лакокрасочные машины можно разделить на оборудование для декоративного нанесения покрытий, электро...Читать далее -
Краткое описание и преимущества оборудования для магнетронного распыления покрытий
Принцип магнетронного распыления: электроны сталкиваются с атомами аргона в процессе ускорения к подложке под действием электрического поля, ионизируя большое количество ионов аргона и электронов, и электроны устремляются к подложке. Ионы аргона ускоряются и бомбардируют материал мишени...Читать далее -
Преимущества вакуумно-плазменной очистки
1. Вакуумная плазменная очистка предотвращает образование вредных газов, вредных для организма человека, во время влажной очистки и позволяет избежать мытья предметов. 2. После плазменной очистки очищаемый объект высушивается и может быть отправлен на следующий этап обработки без дополнительной сушки, что позволяет выполнить обработку...Читать далее -
Что такое технология PVD-покрытия?
PVD-покрытие — одна из основных технологий получения тонкопленочных материалов. Пленочный слой придает поверхности изделия металлическую текстуру и насыщенный цвет, повышает износостойкость и коррозионную стойкость, а также продлевает срок службы. Наиболее распространенными методами являются магнетронное распыление и вакуумное испарение...Читать далее -
99zxc. Нанесение покрытия на пластиковые оптические компоненты.
В настоящее время отрасль разрабатывает оптические покрытия для таких применений, как цифровые камеры, сканеры штрих-кодов, волоконно-оптические датчики и сети связи, а также биометрические системы безопасности. По мере роста рынка в пользу недорогих и высокоэффективных пластиковых оптических покрытий...Читать далее -
Как удалить пленочный слой с покрытого стекла
Стекло с покрытием подразделяется на стекло с покрытием, нанесенным методом испарения, стекло с покрытием, нанесенным методом магнетронного распыления, и стекло с покрытием, нанесенным методом осаждения из паровой фазы в потоке. Поскольку метод получения пленки различен, метод ее удаления также различен. Предложение 1: Использование соляной кислоты и цинкового порошка для полировки и шлифовки...Читать далее -
Не следует игнорировать немногочисленные проблемы вакуумной системы.
1. При соединении вакуумных компонентов, таких как клапаны, ловушки, пылесборники и вакуумные насосы, следует стараться, чтобы насосный трубопровод был коротким, направляющие трубопровода — большими, а диаметр трубопровода, как правило, не меньше диаметра патрубка насоса…Читать далее
