Com o crescente desenvolvimento da tecnologia de revestimento por pulverização catódica, especialmente a tecnologia de revestimento por pulverização catódica magnetron, atualmente, qualquer material pode ser preparado por meio de um filme alvo de bombardeamento iônico. Como o alvo é pulverizado durante o processo de revestimento em algum tipo de substrato, a qualidade do filme pulverizado tem um impacto significativo, portanto, os requisitos do material alvo também são mais rigorosos. Na seleção do material alvo, além da utilização do próprio filme, devem ser considerados os seguintes aspectos:
1. O material alvo deve ter boa resistência mecânica e estabilidade química após a formação do filme
2. A combinação do alvo e do substrato deve ser forte, caso contrário, deve-se usar um substrato que tenha uma boa combinação de material de membrana, primeiro pulverizando uma película base e depois preparando a camada de membrana necessária.
3 como um material de membrana de pulverização catódica de reação deve ser fácil de reagir com o gás para gerar compostos de membrana; 4.
4. Sob a premissa de atender aos requisitos de desempenho da membrana, a diferença entre o coeficiente de expansão térmica do material alvo e o substrato é a menor possível, de modo a minimizar o efeito do estresse térmico na membrana pulverizada.
Influência do estresse térmico do filme de pulverização catódica; 5.
5. De acordo com os requisitos de uso e desempenho da membrana, o material alvo deve atender à pureza, teor de impurezas, uniformidade dos componentes, precisão de usinagem e outros requisitos técnicos.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Data de publicação: 21 de dezembro de 2023