Med den økende utviklingen av sputterbeleggsteknologi, spesielt magnetron-sputterbeleggsteknologi, kan for tiden fremstilles et hvilket som helst materiale med ionbombardement av målfilm. Fordi målet sputteres i prosessen med å belegge det på et slags substrat, har kvaliteten på den sputterte filmen en viktig innvirkning, derfor er kravene til målmaterialet også strengere. Ved valg av målmateriale bør man i tillegg til bruken av selve filmen også vurdere følgende punkter:
1. Målmaterialet bør ha god mekanisk styrke og kjemisk stabilitet etter dannelsen av filmen
2. Kombinasjonen av mål og substrat må være sterk, ellers bør man ta hensyn til at substratet har en god kombinasjon av membranmateriale, først forstøve en basisfilm og deretter forberede det nødvendige membranlaget.
3. Som reaksjonsmembranmateriale må det være lett å reagere med gassen for å generere forbindelser i membranen;
4. Under forutsetningen om å oppfylle kravene til membranytelse, er forskjellen mellom termisk ekspansjonskoeffisient for målmaterialet og substratet så liten som mulig, for å minimere effekten av termisk stress på den forstøvede membranen.
Påvirkningen av termisk stress i sputterfilmen; 5.
5. I henhold til membranens bruks- og ytelseskrav må målmaterialet oppfylle tekniske krav til renhet, urenhetsinnhold, komponentensartethet, maskineringsnøyaktighet og andre.
– Denne artikkelen er publisert avprodusent av vakuumbeleggsmaskinerGuangdong Zhenhua
Publisert: 21. desember 2023