ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာမိတ်ဆက်

Vacuum evaporation coating (evaporationcoating ဟုရည်ညွှန်းသည်) သည် vacuum ပတ်ဝန်းကျင်တွင်ရှိပြီး vaporizer သည် film ပစ္စည်းကို gasification ဖြစ်စေရန် အပူပေးသည်၊ film ပစ္စည်း၏ အမှုန်စီးကြောင်းသည် substrate နှင့် substrate စုပုံခြင်းသို့ တိုက်ရိုက်ရောက်ရှိပြီး solid film နည်းပညာကို ဖွဲ့စည်းသည်။ Vacuum evaporation သည် PVD နည်းပညာဖြင့် အစောဆုံးနှင့် ပိုမိုကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသော town film နည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုတွင် အသုံးပြုခဲ့သော်လည်း နောက်ပိုင်းတွင် sputtering နှင့် ion plating များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာခြင်းသည် vacuum evaporation ထက် ရှုထောင့်များစွာတွင် သာလွန်ကောင်းမွန်သော်လည်း vacuum evaporation town film နည်းပညာတွင် အားသာချက်များစွာရှိနေသေးသည်၊ ဥပမာအားဖြင့် ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်သည် အတော်လေးရိုးရှင်းသည်၊ အလွန်သန့်စင်သော film စုပုံခြင်းသာမက film layer ၏ တိကျသောဖွဲ့စည်းပုံနှင့် ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့်လည်း ပြင်ဆင်နိုင်သည်၊ စသည်တို့ဖြစ်သည်။ ဤနည်းလမ်း၏ အဓိကအားနည်းချက်များမှာ ပုံဆောင်ခဲဖွဲ့စည်းပုံရှိသော film များကို ရရှိရန် မလွယ်ကူခြင်း၊ substrate ပေါ်တွင် film ကပ်ငြိမှုနည်းပါးခြင်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ကို ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှု မလုံလောက်ခြင်းတို့ဖြစ်သည်။

မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း အီလက်ထရွန်ဗုံးကြဲမှုအငွေ့ပျံခြင်း၊ မြင့်မားသောကြိမ်နှုန်း induction အငွေ့ပျံခြင်း၊ လေဆာအငွေ့ပျံခြင်းနှင့် အခြားနည်းပညာများကြောင့် vacuum evaporation coating နည်းပညာကို ယေဘုယျအသုံးချလာသောကြောင့် ဤနည်းပညာသည် ပိုမိုပြီးပြည့်စုံပြီး စက်ယန္တရားများ၊ လျှပ်စစ်ဖုန်စုပ်စက်၊ ရေဒီယို၊ မှန်ဘီလူး၊ အဏုမြူစွမ်းအင်တို့တွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုလာကြသည်။