Pelapisan penguapan vakum (disebut juga pelapisan evaporatif) adalah teknologi pelapisan padat yang terbentuk dalam lingkungan vakum. Evaporator memanaskan material film untuk membuatnya menguap, kemudian material film tersebut menguap dan membentuk aliran partikel langsung ke substrat, lalu substrat tersebut mengendap. Penguapan vakum merupakan teknologi pelapisan padat PVD yang paling awal dan banyak digunakan. Meskipun kemudian berkembang dengan teknologi sputtering dan ion plating yang lebih unggul daripada penguapan vakum dalam banyak aspek, teknologi pelapisan padat penguapan vakum masih memiliki banyak keunggulan, seperti peralatan dan proses yang relatif sederhana, pengendapan film yang sangat murni, dan juga dapat menghasilkan lapisan film dengan struktur dan sifat spesifik. Kekurangan utama metode ini adalah sulit untuk mendapatkan film dengan struktur kristal, daya rekat film pada substrat rendah, dan pengulangan proses kurang baik.
Dalam beberapa tahun terakhir, berkat penguapan bombardir elektron, penguapan induksi frekuensi tinggi, serta penguapan laser dan teknologi lainnya dalam teknologi pelapisan penguapan vakum, teknologi ini menjadi lebih sempurna dan banyak digunakan dalam bidang permesinan, vakum listrik, radio, optik, dan energi atom.
Waktu posting: 17 Agustus 2023