Lapisan penguapan vakum (disebut minangka lapisan penguapan) ana ing lingkungan vakum, evaporator ngpanasake bahan film kanggo nggawe gasifikasi, penguapan bahan film saka partikel langsung menyang substrat lan deposisi substrat, mbentuk teknologi film padat. Penguapan vakum minangka teknologi PVD ing pangembangan teknologi film kutha paling awal sing luwih akeh digunakake, sanajan pangembangan sputtering lan pelapisan ion luwih lanjut tinimbang kaunggulan penguapan vakum, nanging teknologi film kutha penguapan vakum isih duwe akeh kaluwihan, kayata peralatan lan proses sing relatif prasaja, loro-lorone deposisi film sing murni banget, nanging uga bisa disiapake kanthi struktur lan sifat tartamtu saka lapisan film, lan liya-liyane. Kekurangan utama saka metode iki yaiku ora gampang entuk film kanthi struktur kristal, adhesi film ing substrat cilik, lan pengulangan proses ora cukup apik.
Ing taun-taun pungkasan, amarga penguapan bombardment elektron, penguapan induksi frekuensi dhuwur, uga penguapan laser lan teknologi liyane ing teknologi lapisan penguapan vakum ing aplikasi umum teknologi kasebut, saengga teknologi iki luwih sampurna, lan digunakake sacara wiyar ing mesin, vakum listrik, radio, optik, energi atom kanggo nemokake kutha.
Wektu kiriman: 17 Agustus 2023