Die Vakuumverdampfungsbeschichtung (kurz: Verdampfungsbeschichtung) findet in einer Vakuumumgebung statt. Der Verdampfer erhitzt das Beschichtungsmaterial und verdampft es. Der Partikelstrom des Beschichtungsmaterials trifft direkt auf das Substrat und bildet dort einen festen Film. Die Vakuumverdampfung ist eine der ältesten und am weitesten verbreiteten PVD-Technologien. Obwohl Sputtern und Ionenplattieren in vielen Aspekten überlegen sind, bietet die Vakuumverdampfungsbeschichtung nach wie vor zahlreiche Vorteile. So sind beispielsweise die Anlagen und Prozesse relativ einfach, es lassen sich sehr reine Filme abscheiden und die Schichtstruktur und -eigenschaften gezielt einstellen. Zu den Hauptnachteilen dieses Verfahrens zählen die Schwierigkeit, Filme mit kristalliner Struktur zu erhalten, die geringe Haftung des Films auf dem Substrat und die unzureichende Reproduzierbarkeit des Prozesses.
In den letzten Jahren hat sich die Vakuumverdampfungstechnologie durch Elektronenbeschussverdampfung, Hochfrequenzinduktionsverdampfung sowie Laserverdampfung und andere Technologien immer weiter verbreitet und ist in der allgemeinen Anwendung angekommen. Dadurch ist diese Technologie perfektioniert worden und findet breite Anwendung in den Bereichen Maschinenbau, Elektrotechnik, Vakuumtechnik, Radiotechnik, Optik und Atomenergie.
Veröffentlichungsdatum: 17. August 2023