真空コーティングの概要

真空蒸着コーティング（蒸着コーティングとも呼ばれる）は、真空環境下で蒸着装置によって膜材料を加熱して気化させ、膜材料の蒸発粒子流を基板に直接堆積させて固体膜を形成する技術です。真空蒸着はPVD技術の開発において最も早く、広く使用されている膜技術であり、後にスパッタリングやイオンプレーティングが多くの点で真空蒸着よりも優れているものの、真空蒸着膜技術には、装置やプロセスが比較的単純であること、非常に純粋な膜を堆積できること、特定の構造や特性を持つ膜層を準備できることなど、多くの利点があります。この方法の主な欠点は、結晶構造を持つ膜を得ることが容易ではないこと、膜の基板への密着性が低いこと、プロセスの再現性が十分ではないことです。

近年、電子衝撃蒸着、高周波誘導蒸着、レーザー蒸着などの技術により、真空蒸着コーティング技術は広く応用されるようになり、この技術はより完成度が高まり、機械、電気真空、無線、光学、原子力探査などの分野で広く利用されるようになった。