Il-fluss tax-xogħol tal-kisi ottiku ġeneralment jinkludi l-passi ewlenin li ġejjin: trattament minn qabel, kisi, monitoraġġ u aġġustament tal-film, tkessiħ u tneħħija. Il-proċess speċifiku jista' jvarja skont it-tip ta' tagħmir (bħal kisi bl-evaporazzjoni, kisi bl-isputtering, eċċ.) u l-proċess ta' kisi (bħal film b'saff wieħed, film b'ħafna saffi, eċċ.), iżda b'mod ġenerali, il-proċess ta' kisi ottiku huwa bejn wieħed u ieħor kif ġej:
L-ewwel, l-istadju tat-tħejjija
Tindif u tħejjija ta' komponenti ottiċi:
Qabel il-kisi, il-komponenti ottiċi (bħal lentijiet, filtri, ħġieġ ottiku, eċċ.) jeħtieġ li jitnaddfu sewwa. Dan il-pass huwa l-bażi biex tiġi żgurata l-kwalità tal-kisi. Metodi ta' tindif komunement użati jinkludu tindif ultrasoniku, pickling, tindif bil-fwar u oħrajn.
L-elementi ottiċi nodfa ġeneralment jitqiegħdu fuq l-apparat li jdur jew is-sistema ta' kklampjar tal-magna tal-kisi biex jiġi żgurat li jkunu jistgħu jibqgħu stabbli matul il-proċess tal-kisi.
Pretrattament tal-kamra tal-vakwu:
Qabel ma jitqiegħed l-element ottiku fil-magna tal-kisi, il-kompartiment tal-kisi jeħtieġ li jiġi ppumpjat sa ċertu grad ta' vakwu. L-ambjent tal-vakwu jista' jneħħi b'mod effettiv l-impuritajiet, l-ossiġnu u l-fwar tal-ilma fl-arja, jipprevjenihom milli jirreaġixxu mal-materjal tal-kisi, u jiżgura l-purità u l-kwalità tal-film.
Ġeneralment, il-kompartiment tal-kisi jeħtieġ li jikseb vakwu għoli (10⁻⁵ sa 10⁻⁶ Pa) jew vakwu medju (10⁻³ sa 10⁻⁴ Pa).
It-tieni, il-proċess tal-kisi
Sors tal-kisi tal-bidu:
Is-sors tal-kisi ġeneralment ikun sors ta' evaporazzjoni jew sors ta' sputtering. Sorsi differenti ta' kisi jintgħażlu skont il-proċess tal-kisi u l-materjal.
Sors ta' evaporazzjoni: Il-materjal tal-kisi jissaħħan għal stat evaporattiv bl-użu ta' apparat ta' tisħin, bħal evaporatur b'raġġ ta' elettroni jew evaporatur ta' tisħin b'reżistenza, sabiex il-molekuli jew l-atomi tiegħu jevaporaw u jiġu depożitati fuq il-wiċċ tal-element ottiku fil-vakwu.
Sors ta' sputtering: Billi tapplika vultaġġ għoli, il-mira taħbat ma' joni, u b'hekk toħroġ l-atomi jew il-molekuli tal-mira, li jiġu depożitati fuq il-wiċċ tal-element ottiku biex jiffurmaw film.
Depożizzjoni ta' materjal tal-film:
F'ambjent ta' vakwu, il-materjal miksi jevapora jew jitfaċċa minn sors (bħal sors jew mira ta' evaporazzjoni) u jiddepożita gradwalment fuq il-wiċċ tal-element ottiku.
Ir-rata ta' depożizzjoni u l-ħxuna tal-film jeħtieġ li jiġu kkontrollati b'mod preċiż biex jiġi żgurat li s-saff tal-film ikun uniformi, kontinwu, u jissodisfa r-rekwiżiti tad-disinn. Il-parametri waqt id-depożizzjoni (bħal kurrent, fluss tal-gass, temperatura, eċċ.) jaffettwaw direttament il-kwalità tal-film.
Monitoraġġ tal-film u kontroll tal-ħxuna:
Fil-proċess tal-kisi, il-ħxuna u l-kwalità tal-film ġeneralment jiġu mmonitorjati f'ħin reali, u l-għodod ta' monitoraġġ użati b'mod komuni huma l-mikrobilanċ tal-kristall tal-kwarz (QCM) ** u sensuri oħra, li jistgħu jiskopru b'mod preċiż ir-rata ta' depożizzjoni u l-ħxuna tal-film.
Abbażi ta' din id-dejta ta' monitoraġġ, is-sistema tista' taġġusta awtomatikament parametri bħall-qawwa tas-sors tal-kisi, ir-rata tal-fluss tal-gass jew il-veloċità tar-rotazzjoni tal-komponent biex iżżomm il-konsistenza u l-uniformità tas-saff tal-film.
Film b'ħafna saffi (jekk meħtieġ):
Għal komponenti ottiċi li jeħtieġu struttura b'ħafna saffi, il-proċess ta' kisi ġeneralment jitwettaq saff b'saff. Wara d-depożizzjoni ta' kull saff, is-sistema twettaq skoperta u aġġustament ripetut tal-ħxuna tal-film biex tiżgura li l-kwalità ta' kull saff tal-film tissodisfa r-rekwiżiti tad-disinn.
Dan il-proċess jirrikjedi kontroll preċiż tal-ħxuna u t-tip ta' materjal ta' kull saff biex jiġi żgurat li kull saff ikun jista' jwettaq funzjonijiet bħar-riflessjoni, it-trażmissjoni jew l-interferenza f'medda speċifika ta' wavelength.
It-tielet, kessaħ u neħħi
CD:
Wara li jitlesta l-kisi, l-ottika u l-magna tal-kisi jeħtieġ li jitkessħu. Peress li t-tagħmir u l-komponenti jistgħu jisħnu matul il-proċess tal-kisi, jeħtieġ li jitkessħu għat-temperatura tal-kamra permezz ta' sistema ta' tkessiħ, bħal ilma li jkessaħ jew fluss ta' arja, biex tiġi evitata ħsara termali.
F'xi proċessi ta' kisi b'temperatura għolja, it-tkessiħ mhux biss jipproteġi l-element ottiku, iżda jippermetti wkoll li l-film jikseb adeżjoni u stabbiltà ottimali.
Neħħi l-element ottiku:
Wara li jitlesta t-tkessiħ, l-element ottiku jista' jitneħħa mill-magna tal-kisi.
Qabel ma titneħħa, huwa meħtieġ li jiġi ċċekkjat l-effett tal-kisi, inkluża l-uniformità tas-saff tal-film, il-ħxuna tal-film, l-adeżjoni, eċċ., biex jiġi żgurat li l-kwalità tal-kisi tissodisfa r-rekwiżiti.
4. Post-ipproċessar (mhux obbligatorju)
Twebbis tal-film:
Xi kultant il-film miksi jeħtieġ li jiġi mwebbes biex titjieb ir-reżistenza għall-grif u d-durabbiltà tal-film. Dan ġeneralment isir permezz ta' mezzi bħal trattament bis-sħana jew radjazzjoni ultravjola.
Tindif tal-film:
Sabiex jitneħħew kontaminanti, żjut jew impuritajiet oħra mill-wiċċ tal-film, jista' jkun meħtieġ li jsir tindif żgħir, bħal tindif, trattament ultrasoniku, eċċ.
5. Spezzjoni u ttestjar tal-kwalità
Test tal-prestazzjoni ottika: Wara li jitlesta l-kisi, titwettaq serje ta' testijiet tal-prestazzjoni fuq il-komponent ottiku, inkluż it-trażmittanza tad-dawl, ir-riflettività, l-uniformità tal-film, eċċ., Biex jiġi żgurat li jissodisfa r-rekwiżiti tekniċi.
Test tal-adeżjoni: Permezz ta' test tat-tejp jew test tal-grif, iċċekkja jekk l-adeżjoni bejn il-film u s-sottostrat hijiex b'saħħitha.
Ittestjar tal-istabbiltà ambjentali: Kultant ikun meħtieġ li jsiru testijiet tal-istabbiltà taħt kundizzjonijiet ambjentali bħat-temperatura, l-umdità, u d-dawl ultravjola biex tiġi żgurata l-affidabbiltà tas-saff tal-kisi f'applikazzjonijiet prattiċi.
–Dan l-artiklu ġie ppubblikat minnmanifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwuGuangdong Zhenhua
Ħin tal-posta: 24 ta' Jannar 2025