Шүршигч бүрэх технологи, ялангуяа магнетрон цацах бүрэх технологи улам бүр хөгжиж байгаа өнөө үед ямар ч материалыг ионоор бөмбөгдөх зорилтот хальсаар бэлтгэх боломжтой, учир нь тодорхой төрлийн субстрат дээр бүрэх явцад зорилтот бодис цацагддаг тул цацсан хальсны чанар чухал нөлөө үзүүлдэг тул зорилтот материалын шаардлага ч илүү хатуу болж байна. Зорилтот материалыг сонгохдоо киног өөрөө ашиглахаас гадна дараахь асуудлуудыг анхаарч үзэх хэрэгтэй.
1. Зорилтот материал нь хальс үүссэний дараа механик бат бөх, химийн тогтвортой байдал сайтай байх ёстой
2. Зорилтот ба субстратын хослол нь хүчтэй байх ёстой, эс тэгвээс субстраттай хамт авч байх ёстой мембран материалын сайн хослол, эхлээд суурь хальсыг цацаж, дараа нь шаардлагатай мембран давхаргыг бэлтгэнэ.
3 урвалын хувьд шүрших мембран материал нь нэгдлүүдийн мембран үүсгэхийн тулд хийтэй урвалд ороход хялбар байх ёстой; 4.
4. Мембраны гүйцэтгэлийн шаардлагыг хангахын тулд зорилтот материал ба субстратын дулааны тэлэлтийн коэффициентийн зөрүүг аль болох бага байлгахын тулд шүршигч мембранд үзүүлэх дулааны стрессийн нөлөөллийг багасгах.
Цацах хальсны дулааны стрессийн нөлөөлөл; 5.
5. Мембраны ашиглалт, гүйцэтгэлийн шаардлагын дагуу зорилтот материал нь цэвэршилт, хольцын агууламж, бүрэлдэхүүн хэсгийн жигд байдал, боловсруулалтын нарийвчлал болон бусад техникийн шаардлагыг хангасан байх ёстой.
-Энэ нийтлэлийг гаргасанвакуум бүрэх машин үйлдвэрлэгчГуандун Жэнхуа
Шуудангийн цаг: 2023 оны 12-р сарын 21