Mat der zouhuelender Entwécklung vun der Sputterbeschichtungstechnologie, besonnesch der Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, kann de Moment fir all Material mat engem Ionenbombardement-Zilfilm virbereet ginn. Well d'Zil beim Beschichtungsprozess op eng Zort Substrat gesputtert gëtt, huet d'Qualitéit vum Sputterfilm e wichtegen Afloss. Dofir sinn d'Ufuerderunge vum Zilmaterial och méi streng. Bei der Auswiel vum Zilmaterial sollten, nieft der Notzung vum Film selwer, och déi folgend Punkte berécksiichtegt ginn:
1. D'Zilmaterial soll no der Bildung vum Film eng gutt mechanesch Stäerkt a chemesch Stabilitéit hunn
2. D'Kombinatioun vum Zil a vum Substrat muss staark sinn, soss soll mat enger gudder Kombinatioun vu Membranmaterial vum Substrat geholl ginn, fir d'éischt e Basisfilm ze sputteren an dann déi gewënscht Membranschicht virzebereeden.
3 Als Reaktiounssputtermembranmaterial muss et einfach sinn, mam Gas ze reagéieren, fir Membranverbindungen ze generéieren; 4.
4. Ënnert der Viraussetzung, d'Ufuerderunge vun der Membranleistung ze erfëllen, ass den Ënnerscheed tëscht dem thermesche Expansiounskoeffizient vum Zilmaterial an dem Substrat sou kleng wéi méiglech, fir den Effekt vum thermesche Stress op d'Sputtermembran ze minimiséieren.
Den Afloss vun der thermescher Belaaschtung vum Sputterfilm; 5.
5. Geméiss den Ufuerderunge vun der Notzung an den Leeschtunge vun der Membran muss d'Zilmaterial d'Reinheet, den Onreinheetsgehalt, d'Komponentenuniformitéit, d'Bearbechtungsgenauegkeet an aner technesch Ufuerderunge erfëllen.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 21. Dezember 2023