E Sputter-Vakuumbeschichtungsapparat ass en Apparat, deen benotzt gëtt fir dënn Materialschichten op e Substrat ofzesetzen. Dëse Prozess gëtt dacks bei der Produktioun vu Hallefleeder, Solarzellen a verschiddenen Aarte vu Beschichtungen fir optesch an elektronesch Uwendungen benotzt. Hei ass eng einfach Iwwersiicht iwwer wéi et funktionéiert:
1. Vakuumkammer: De Prozess fënnt an enger Vakuumkammer statt, fir d'Kontaminatioun ze reduzéieren an eng besser Kontroll iwwer den Oflagerungsprozess ze erméiglechen.
2. Zilmaterial: D'Material, dat ofgesat soll ginn, gëtt als Zilmaterial bezeechent. Dëst gëtt an der Vakuumkammer placéiert.
3. Substrat: De Substrat ass dat Material, op deem den dënne Film ofgesat gëtt. E gëtt och an der Vakuumkammer placéiert.
4. Plasmageneratioun: En Inertgas, typescherweis Argon, gëtt an d'Kammer agefouert. Eng héich Spannung gëtt op d'Zil ugewannt, wouduerch e Plasma entsteet (e Matièrezoustand, deen aus fräien Elektronen an Ionen besteet).
5. Sputtering: Ionen aus dem Plasma kollidéieren mam Zilmaterial a schloen Atomer oder Moleküle vum Zil of. Dës Partikelen reesen dann duerch de Vakuum a leeën sech op de Substrat of, wouduerch e dënne Film entsteet.
6. Kontroll: D'Déckt an d'Zesummesetzung vum Film kënne präzis kontrolléiert ginn andeems Parameteren wéi d'Leeschtung, déi op d'Zil ugewannt gëtt, den Drock vum Inertgas an d'Dauer vum Sputterprozess ugepasst ginn.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 12. Juli 2024