Crescente progressu technologiae depositionis per pulverizationem cathodicam, praesertim technologiae depositionis per pulverizationem cathodicam magnetron, hodie quaevis materia pelliculam scopi per bombardationem ionicam praeparari potest. Quia scopum in processu depositionis per pulverizationem cathodicam in quodam substrato deponitur, qualitas pelliculae pulverizatae magnum momentum habet, ergo requisita materiae scopi etiam severiora fiunt. In delectu materiae scopi, praeter usum ipsius pelliculae eligendae, etiam haec consideranda sunt:
1. Materia destinata bonam firmitatem mechanicam et stabilitatem chemicam post formationem pelliculae habere debet.
2. Scopus et substrati coniunctio firma esse debet; alioquin, si substratum bonam materiam membranae coniunctionem habet, primum pelliculam basicam spargendo, deinde stratum membranae requisitum praeparando sumenda est.
3. Ut materia membranae per pulverisationem cathodicam reactionis causa, necesse est ut facile cum gas reagat ad membranam composita generandam; 4.
4. Sub praemissa implendis requisitis functionis membranae, differentia inter coefficientem expansionis thermalis materiae designatae et substrati quam minima est, ut effectus tensionis thermalis in membranam pulverizatam ad minimum reducatur.
Influentia tensionis thermalis in pellicula cathodica deposita; 5.
5. Secundum usus et requisita functionis membranae, materia destinata puritatem, contentum impuritatum, uniformitatem partium, accuratiam machinationis, et alia requisita technica satisfacere debet.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XXI Decembris MMXXIII