Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Variae Pelliculae Opticae in Industria Optica Adhibitae
In optica arte, in vitro optico vel superficie quartz, strato vel pluribus stratis diversarum substantiarum post pelliculam obductis, reflexionem magnam vel non-reflectantem (id est, permeabilitatem pelliculae auctam) vel certam proportionem reflexionis vel transmissionis m obtinere potes...Plura lege -
Partes instrumentorum ad obductionem vacui
Apparatus ad pelliculas tenues deponendas in vacuo est genus technologiae ad pelliculas tenues deponendas in ambitu vacuo, quod late in electronicis, opticis, scientia materialium, energia, et cetera adhibetur. Apparatus ad pelliculas vacuo imprimis ex his partibus constat: Camera Vacui: Haec est pars principalis apparatus vacui...Plura lege -
Applicatio Instrumentorum Tegendi Vacuum
Apparatus ad obductionem vacui applicandam latam applicationum varietatem habet, multas industrias et campos comprehendens. Inter applicationes principales sunt: Electronica ad usum domesticum et circuitus integrati: Technologia ad obductionem vacui applicandam latam applicationum varietatem in electronicis ad usum domesticum habet, ut in structuris metallicis...Plura lege -
Applicatio Zhenhua ad superficiem tractandam pro lucernis autocinetorum ab industria autocinetica
Lucerna est una ex partibus magni momenti currus, et tractatio superficiei reflectoris lucernae potest eius functionem et ornatum augere; processus communis tractationis superficiei calicis lucernae includit incrustationem chemicam, picturam, et obductionem vacuo. Processus pulverizationis picturae et incrustatio chemica est modus traditionalis calicis lucernae...Plura lege -
Partes apparatus ad obductionem in vacuo
Apparatus ad obducendum vacuum plerumque constat ex pluribus elementis principalibus, quorum unumquodque propriam functionem habet, quae una operantur ad efficientem et uniformem depositionem pelliculae efficiendam. Infra descriptio elementorum principalium et functionum earum invenitur: Elementa Principalia Camera vacui: Functio: Praebet...Plura lege -
Principium Operationis Systematis Tegumenti Evaporativi Thermalis
Apparatus ad materiam evaporativam applicandam est genus apparatus ad materiam tenuem pelliculae in superficie substrati deponendam, quod late in campis instrumentorum opticorum, instrumentorum electronicorum, obductionum decorativarum, et cetera adhibetur. Obductio evaporativa praecipue temperaturam altam ad solidum convertendum utitur...Plura lege -
Introductio Obducentis Inlineae
Machina obducendi in linea vacui est genus systematis obductionis provectum destinatum ad ambitus productionis continuae et magnae productionis. Dissimiliter machinis obductionis per seriem, quae substrata in gregibus discretis tractant, machinae obductionis in linea permittunt substrata continue per varias gradus processus obductionis moveri. Eius...Plura lege -
Sputtering Vacuum Coater
Machina ad obducendum vapore per pulverizationem est instrumentum ad deponendas tenues membranas materiae in substratum. Hic processus vulgo adhibetur in productione semiconductorum, cellularum solarium, et variorum generum obductionum ad usus opticos et electronicos. Hic est conspectus fundamentalis quomodo operatur: 1.V...Plura lege -
Introductio Systematis Obductionis Vacui
Systema obductionis vacui est technologia adhibita ad pelliculam tenuem vel obductionem superficiei in ambitu vacuo applicandam. Hic processus obductionem altae qualitatis, uniformem et durabilem praestat, quae in variis industriis, ut electronicis, opticis, autocineticis et aëronauticis, maximi momenti est. Sunt variae...Plura lege -
Quid est systemata obductionis vacui in linea per pulverizationem opticam?
Systema obductionis vacui in linea per magnetron sputtering optica sunt technologia provecta ad deponendas pelliculas tenues in varia substrata, quae vulgo in industriis ut optica, electronica et scientia materialium adhibentur. Sequitur conspectus accuratus: Componentes et proprietates: 1...Plura lege -
Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput II
(3) Depositio vaporis plasmatis radiofrequentialis (CVD plasmatis radiofrequentialis) RF ad plasmam generandum duabus methodis diversis adhiberi potest, methodo copulationis capacitivae et methodo copulationis inductivae. CVD plasmatis radiofrequentialis frequentiam 13.56 MHz utitur. Commodum plasmatis radiofrequentialis est quod per aream multo maiorem diffunditur quam plasma microfluctualis...Plura lege -
Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput I
Depositio vaporum fermentationis (CVD) filamento calido est prima et popularissima methodus crescendi adamantes sub pressione humili. Anno 1982 Matsumoto et al. filamentum metallicum refractarium ad plus quam 2000°C calefecerunt, qua temperatura gas H2 per filamentum transiens facile atomos hydrogenii producit. Productio hydrogenii atomici per...Plura lege -
Quae sunt classificationes apparatuum ad obducendum in vacuo?
Technologia obductionis vacui est technologia quae materiam tenuem pelliculae in superficiem materiae substrati sub ambitu vacuo deponit, quae late in electronicis, opticis, involucris, ornatu aliisque campis adhibetur. Apparatus obductionis vacui praecipue in sequentia genera dividi potest...Plura lege -
Quomodo bonam notam instrumentorum ad obductionem in vacuo addendam eligas?
Apparatus ad superficies obducendas vacuo aptus est genus apparatus ad superficies modificandas utens technologia vacuo, qui praecipue cameram vacuo, systema vacuo, systema fontis caloris, materiam obducendam et cetera comprehendit. In praesenti, apparatus ad superficies obducendas vacuo late in autocinetis, telephoniis mobilibus, opticis, et se...Plura lege -
Introductio Technologiae Obductionis Ionum Vacui
1. Principium technologiae obductionis ionum vacui Technologia arcus electrici exonerandi in camera vacui adhibita, lux arcus electrici in superficie materiae cathodicae generatur, quae atomos et iones in materia cathodica formare facit. Sub actione campi electrici, fasciculi atomorum et ionum...Plura lege
