Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Depositio Vaporis Chemici Plasma Augmentata Caput I
Depositio Vaporis Chemici (DVC). Ut nomen indicat, est ars quae reactantibus praecursoribus gasosis utitur ad pelliculas solidas generandas per reactiones chemicas atomicas et intermoleculares. Dissimilis DVC, processus DVC plerumque perficitur in ambitu pressionis altioris (vacui inferioris), cum...Plura lege -
Elementa Processus et Mechanismi Actionis Qualitatem Instrumentorum Tenuium Pellicularum Afficientes (Pars II)
3. Influentia temperaturae substrati Temperatura substrati est una ex condicionibus magni momenti ad incrementum membranae. Supplementum energiae additum atomis vel moleculis membranae praebet, et imprimis structuram membranae, coefficientem agglutinationis, coefficientem expansionis et aggregationem afficit...Plura lege -
Factores Processuum et Mechanismi Qualitatem Instrumentorum Tenuium Pellicularum Afficientes (Pars 1)
Fabricatio instrumentorum pelliculae tenuis opticae in camera vacuo perficitur, et incrementum pelliculae processus microscopicus est. Attamen, hodie, processus macroscopici qui directe regi possunt sunt quidam factores macroscopici qui relationem indirectam cum qualitate habent...Plura lege -
Introductio historiae evolutionis technologiae evaporationis
Processus calefactionis materiarum solidarum in alto vacuo ad sublimandum vel evaporandum et deponendum in substrato specifico ad pelliculam tenuem obtinendam, "vacuum evaporation coating" (quod "evaporation coating" appellatur) appellatur. Historia praeparationis pellicularum tenuium per evaporationem vacuum...Plura lege -
Introductio ad ITO Coating
Indii stanneum oxidum (ITO appellatum) est materia semiconductoria generis n, latae zonae hiatus, valde dopata, cum alta transmittantia lucis visibilis et humilis resistentiae characteristicis, et ideo late adhibetur in cellulis solaribus, ostentationibus planis, fenestris electrochromicis, inorganicis et organicis...Plura lege -
Machina ad rotationem oblinendum in vacuo laboratorio
Machinae rotatoriae in laboratorio ad depositionem pellicularum tenuium et modificationem superficiei destinatae sunt. Haec machina provectior ad accurate et aequaliter applicandas pelliculas tenues variarum materiarum ad substrata destinatur. Processus applicationem solutionis liquidae vel ...Plura lege -
Modus depositionis fasciculo ionico adiutus et eius selectio energiae
Duo modi praecipui depositionis fasciculo ionico adiuvatae sunt: unus hybridus dynamicus, alter hybridus staticus. Prior ad pelliculam in processu accretionis semper comitandam est energia quadam et currente fasciculi bombardamenti ionici et pelliculae; posterior autem praedeponitur in superficie...Plura lege -
Technologia Depositionis Fasciculi Ionici
① Technologia depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesione valida inter pelliculam et substratum insignitur, stratum pelliculae valde validum esse. Experimenta demonstraverunt: adhaesionem depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesionem depositionis vaporis thermalis pluries ad centena auctam...Plura lege -
Tegumentum Ionicum Vacuum
Tegumentum ionicum vacuum (quod "ion plate" appellatur) est in Civitatibus Foederatis Americae anno 1963 a societate Somdia DM Mattox propositum, decennio 197 celeriter nova technologia tractationis superficiei progressa est. Ad usum fontis evaporationis vel scopi pulverisationis in atmosphaera vacua refertur, ut pellicula...Plura lege -
Stratum pelliculae in vitro obducto removendum est.
Vitrum obductum dividitur in vitrum evaporatione obductum, vitrum magnetron sputtering obductum, et vitrum vapore deposito in linea obductum. Cum modus praeparandi pelliculam differat, modus removendi pelliculam etiam differt. Consilium 1, Acidum hydrochloricum et pulverem zinci ad poliendum et fricandum adhibendo...Plura lege -
Munus Tegumentorum Instrumentorum Secantium - Caput II
Etiam temperaturis secandis altissimis, vita usus instrumenti secandi extendi potest obductione, ita sumptus machinationis insigniter minuendo. Praeterea, obductio instrumenti secandi potest necessitatem fluidorum lubricorum minuere. Non solum sumptus materiarum minuit, sed etiam adiuvat ad ambitum protegendum...Plura lege -
Munus Tegumentorum Instrumentorum Secantium - Caput I
Tegumenta instrumentorum secantium frictionem et proprietates attritionis instrumentorum secantium augent, quam ob rem in operationibus secandis necessaria sunt. Per multos annos, provisores technologiae tractationis superficierum solutiones tegumentorum personalizatas excogitaverunt ad resistentiam attritionis instrumentorum secantium, efficientiam machinationis...Plura lege -
Introductio Antliarum Vacui Diversarum in Systemate Vacui
Praeter facultatem vacuum in cameram immittendi, alias differentias in effectu variarum antliarum vacui habet. Quapropter, magni momenti est eligere opus quod antlia in systemate vacui suscipit, et munus quod antlia in variis campis laboris sustinet, summatim describitur...Plura lege -
Machina ad tegulas pavimenti ceramicas pulverizandas in vacuo inducendas
Machina ad sputtering vacuum applicandum technologiam provectam adhibet ad pelliculas tenues tegulis pavimenti ceramicis applicandas. Hic processus cameram vacuum adhibet ad tegumenta metallica vel composita in superficiem tegulorum deponenda, unde fit superficies durabilis et aspectu iucunda...Plura lege -
Machina ad Partium Autocineticarum Metallizandarum Vacuum Tegendarum
Una ex causis praecipuis quae hanc inclinationem impellunt est crescens conscientia de momento utendi tegumentis altae qualitatis in partibus autocineticis. Hae tegumenta non solum pulchritudinem partium amplificant, sed etiam praesidium contra corrosionem et detritionem praebent, vitam partis autocineticae denique extendentes...Plura lege
