스퍼터링 코팅 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술의 급속한 발전으로, 현재 모든 소재에 대해 이온 충격 타겟 필름을 제조할 수 있습니다. 타겟을 스퍼터링 공정에서 특정 기판에 코팅하는 과정에서 스퍼터링 필름의 품질이 중요한 영향을 미치기 때문에 타겟 소재에 대한 요구 사항 또한 더욱 엄격해지고 있습니다. 타겟 소재를 선택할 때는 필름 자체의 용도 외에도 다음과 같은 사항을 고려해야 합니다.
1. 타겟 물질은 필름 형성 후 우수한 기계적 강도와 화학적 안정성을 가져야 합니다.
2. 타겟과 기판의 조합은 강력해야 하며, 그렇지 않은 경우 기판과 멤브레인 재료의 조합이 좋아야 하며, 먼저 기본 필름을 스퍼터링한 다음 필요한 멤브레인 층을 준비해야 합니다.
3 반응 스퍼터링 멤브레인 재료는 가스와 쉽게 반응하여 화합물 멤브레인을 생성해야 합니다. 4.
4. 막 성능의 요구사항을 충족한다는 전제 하에, 타겟 물질과 기판의 열팽창 계수의 차이를 가능한 한 작게 하여 스퍼터링 막에 열응력이 미치는 영향을 최소화합니다.
스퍼터링 필름의 열응력의 영향;5.
5. 막의 사용 및 성능 요구 사항에 따라 대상 재료는 순도, 불순물 함량, 구성 요소 균일성, 가공 정확도 및 기타 기술 요구 사항을 충족해야 합니다.
–이 기사는 다음에서 발행합니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2023년 12월 21일