真空コーティングの紹介

真空蒸着コーティング（または蒸着コーティングとも呼ばれる）は、真空環境で、蒸発器で加熱した膜材料をガス化し、膜材料の蒸発粒子流を基板に直接基板に吹き付けて堆積させ、固体の膜を形成する技術です。真空蒸着はPVD技術の中で開発が最も早く、より広く使用されているタウンフィルム技術ですが、その後スパッタリングやイオンプレーティングの発展により、多くの面で真空蒸着が優位になりましたが、真空蒸着タウンフィルム技術には、設備やプロセスが比較的簡単、非常に純粋な膜を堆積できる、特定の構造や特性の膜層を作製できるなど、依然として多くの利点があります。この方法の主な欠点は、結晶構造を持つ膜を得るのが容易ではない、基板上の膜の付着力が小さい、プロセスの再現性が十分ではないことです。

近年、電子衝撃蒸発、高周波誘導蒸発、レーザー蒸発などの技術により、真空蒸着コーティング技術が一般応用され、この技術はより完璧になり、機械、電気真空、無線、光学、原子力などの分野で広く使用されています。