ציפוי ואקום באמצעות התזה הוא מכשיר המשמש להנחת שכבות דקות של חומר על גבי מצע. תהליך זה נפוץ בייצור מוליכים למחצה, תאים סולאריים וסוגים שונים של ציפויים ליישומים אופטיים ואלקטרוניים. הנה סקירה בסיסית של אופן פעולתו:
1. תא ואקום: התהליך מתבצע בתוך תא ואקום כדי להפחית זיהום ולאפשר שליטה טובה יותר על תהליך ההפקדה.
2. חומר מטרה: החומר שיש להטמיע נקרא מטרה. הוא ממוקם בתוך תא הוואקום.
3. מצע: המצע הוא החומר עליו יונח הסרט הדק. הוא ממוקם גם הוא בתוך תא הוואקום.
4. יצירת פלזמה: גז אינרטי, בדרך כלל ארגון, מוחדר לתא. מתח גבוה מופעל על המטרה, ויוצר פלזמה (מצב של חומר המורכב מאלקטרונים חופשיים ויונים).
5. התזה: יונים מהפלזמה מתנגשים בחומר המטרה, ומפילים אטומים או מולקולות מהמטרה. חלקיקים אלה נעים דרך הוואקום ומשקעים על המצע, ויוצרים שכבה דקה.
6. בקרה: ניתן לשלוט במדויק בעובי ובהרכב הסרט על ידי התאמת פרמטרים כגון ההספק המופעל על המטרה, לחץ הגז האינרטי ומשך תהליך ההתזה.
–מאמר זה פורסם על ידייצרן מכונות ציפוי ואקוםגואנגדונג ז'נהואה
זמן פרסום: 12 ביולי 2024