Site na mmepe na-arịwanye elu nke teknụzụ mkpuchi mkpuchi, karịsịa magnetron sputtering technology, ugbu a, maka ihe ọ bụla nwere ike ịkwado ya site na ihe nkiri ion bombardment target, n'ihi na a na-agbasa ihe mgbaru ọsọ na usoro nke mkpuchi ya na ụdị ụfọdụ, àgwà nke ihe nkiri na-agbapụta nwere mmetụta dị mkpa, ya mere, ihe ndị a chọrọ nke ihe a na-achọsi ike bụkwa ihe siri ike karị. Na nhọrọ nke ihe ezubere iche, na mgbakwunye na iji ihe nkiri ahụ n'onwe ya kwesịrị ịhọrọ, kwesịkwara ịtụle okwu ndị a:
1. Ihe e lekwasịrị anya kwesịrị inwe ike nrụpụta dị mma na nkwụsi ike kemịkalụ mgbe emechara ihe nkiri ahụ
2. Target na mkpụrụ Nchikota ga-ike, ma ọ bụghị kwesịrị iwere na mkpụrụ nwere ezigbo Nchikota akpụkpọ anụ ihe, mbụ sputtering a isi film na mgbe ahụ nkwadebe nke chọrọ akpụkpọ ahụ oyi akwa.
3 dị ka mmeghachi omume sputtering akpụkpọ ahụ ihe ga-adị mfe meghachi omume na gas n'ịwa ogige ogige; 4.
4. N'okpuru nhazi nke imezu ihe achọrọ nke ịrụ ọrụ akpụkpọ ahụ, ọdịiche dị n'etiti ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ nke ihe a na-atụ anya ya na mkpụrụ ahụ dị ntakịrị dị ka o kwere mee, ka ibelata mmetụta nke nrụgide okpomọkụ na akpụkpọ ahụ sputtered.
Mmetụta nke nrụgide okpomọkụ nke ihe nkiri sputtering; 5.
5. Dị ka ojiji na arụmọrụ chọrọ nke akpụkpọ ahụ, ihe ezubere iche ga-ezute ịdị ọcha, ọdịnaya adịghị ọcha, otu ihe mejupụtara, nhazi nhazi na teknụzụ ndị ọzọ.
–E wepụtara akụkọ aonye na-emepụta igwe mkpuchi ikukuGuangdong Zhenhua
Oge nzipu: Dec-21-2023