Tha stiùireadh leasachadh teicneòlais cealla silicon criostalach cuideachd a’ toirt a-steach teicneòlas PERT agus teicneòlas Topcon, thathas a’ meas an dà theicneòlas seo mar leudachadh air teicneòlas cealla dòigh sgaoilidh traidiseanta, is e na feartan cumanta aca còmhdach fulangais air cùl na cealla, agus tha an dà chuid a’ cleachdadh còmhdach de poly silicon doped mar an raon cùil, tha an sgoil air a chleachdadh sa mhòr-chuid ann an còmhdach ocsaideachaidh àrd-teòthachd, agus tha an còmhdach poly silicon doped air a chleachdadh ann an dòigh LPCVD agus PECVD, msaa. Chaidh PECVD tiùbalach agus PECVD tiùbalach agus PECVD truinnsear còmhnard a chleachdadh ann an cinneasachadh mòr-sgèile de cheallan PERC.
Tha comas mòr aig PECVD tiùbalach agus mar as trice bidh e a’ gabhail ri solar cumhachd ìosal-tricead de ghrunn dheichean de kHz. Faodaidh duilgheadasan bomadh ian agus platadh seach-rathaid buaidh a thoirt air càileachd an t-sreath fulangachaidh. Chan eil duilgheadas platadh seach-rathaid aig PECVD rèidh, agus tha buannachd nas motha aige ann an coileanadh còmhdach, agus faodar a chleachdadh airson filmichean Si, Si0X, SiCX le dop a thasgadh. Is e an ana-cothrom gu bheil tòrr haidridean anns an fhilm phlàtaichte, a tha furasta adhbhrachadh sèididh anns an t-sreath film, agus tha tiughas a’ chòmhdaich cuibhrichte. Faodaidh teicneòlas còmhdach lpcvd a’ cleachdadh còmhdach àmhainn tiùba, le comas mòr, film polysilicon nas tiugh a thasgadh, ach bidh platadh timcheall air, agus às deidh don t-sreath film platadh timcheall air a thoirt air falbh sa phròiseas lpcvd chan eil e a’ goirteachadh an t-sreath ìosal. Tha ceallan Topcon a chaidh a thoirt a-mach gu mòr air èifeachdas tionndaidh cuibheasach de 23% a choileanadh.
——Tha an t-artaigil seo air fhoillseachadh leinneal còmhdach falamhGuangdong Zhenhua
Àm puist: 22 Sultain 2023