Mei de tanimmende ûntwikkeling fan sputtercoatingtechnology, benammen magnetron-sputtercoatingtechnology, kin op it stuit foar elk materiaal taret wurde troch ionbombardemint-doelfilm, om't it doel sputtere wurdt yn it proses fan it coaten op in soarte substraat, hat de kwaliteit fan 'e sputterfilm in wichtige ynfloed, dêrom binne de easken fan it doelmateriaal ek stranger. By de seleksje fan doelmateriaal moat, neist it gebrûk fan 'e film sels, ek rekken holden wurde mei de folgjende saken:
1. It doelmateriaal moat goede meganyske sterkte en gemyske stabiliteit hawwe nei de foarming fan 'e film
2. De kombinaasje fan doel en substraat moat sterk wêze, oars moat it nommen wurde mei in goede kombinaasje fan membraanmateriaal op it substraat, earst in basisfilm oanbringe en dan de fereaske membraanlaach tariede.
3 as reaksje moat it materiaal fan in sputtermembraan maklik reagearje kinne mei it gas om ferbiningen yn it membraan te generearjen; 4.
4. Under it útgongspunt fan it foldwaan oan de easken fan membraanprestaasjes, is it ferskil tusken de koëffisjint fan termyske útwreiding fan it doelmateriaal en it substraat sa lyts mooglik, om it effekt fan termyske stress op it sputterde membraan te minimalisearjen.
De ynfloed fan termyske stress fan sputterfilm; 5.
5. Neffens de gebrûks- en prestaasjeeasken fan it membraan moat it doelmateriaal foldwaan oan de suverens, ûnreinheidsgehalte, komponintuniformiteit, ferwurkingsnauwkeurigens en oare technyske easken.
– Dit artikel wurdt útjûn trochfabrikant fan fakuümcoatingmasinesGuangdong Zhenhua
Pleatsingstiid: 21 desimber 2023