دستگاه لایه نشانی در خلاء اسپاترینگ دستگاهی است که برای رسوب لایههای نازک مواد روی یک زیرلایه استفاده میشود. این فرآیند معمولاً در تولید نیمههادیها، سلولهای خورشیدی و انواع مختلف پوششها برای کاربردهای نوری و الکترونیکی استفاده میشود. در اینجا مروری کلی بر نحوه کار آن داریم:
۱. محفظه خلاء: این فرآیند در داخل یک محفظه خلاء انجام میشود تا آلودگی کاهش یابد و امکان کنترل بهتر بر فرآیند رسوبگذاری فراهم شود.
۲. ماده هدف: مادهای که قرار است رسوب داده شود، به عنوان هدف شناخته میشود. این ماده درون محفظه خلاء قرار میگیرد.
۳. زیرلایه: زیرلایه مادهای است که لایه نازک روی آن رسوب داده میشود. این ماده نیز درون محفظه خلاء قرار میگیرد.
۴. تولید پلاسما: یک گاز بیاثر، معمولاً آرگون، وارد محفظه میشود. یک ولتاژ بالا به هدف اعمال میشود و پلاسما (حالتی از ماده متشکل از الکترونها و یونهای آزاد) ایجاد میشود.
۵. کندوپاش: یونهای پلاسما با ماده هدف برخورد میکنند و اتمها یا مولکولها را از هدف جدا میکنند. این ذرات سپس از طریق خلاء حرکت کرده و روی زیرلایه رسوب میکنند و یک لایه نازک تشکیل میدهند.
۶. کنترل: ضخامت و ترکیب فیلم را میتوان با تنظیم پارامترهایی مانند توان اعمال شده به هدف، فشار گاز بیاثر و مدت زمان فرآیند پاشش، دقیقاً کنترل کرد.
–این مقاله توسط منتشر شده استتولید کننده دستگاه پوشش دهی در خلاءگوانگدونگ ژنهوا
زمان ارسال: ۱۲ ژوئیه ۲۰۲۴