Ihinztadura bidezko estaldura teknologiaren garapen gero eta handiagoarekin, batez ere magnetron bidezko estaldura teknologiarena, gaur egun edozein material prestatu daiteke ioi bonbardaketaren bidezko helburu-filmaren bidez. Helburua substratu motaren batean estaltzeko prozesuan ihinztatzen denez, ihinztadura bidezko filmaren kalitateak eragin handia du, beraz, helburu-materialaren eskakizunak ere zorrotzagoak dira. Helburu-materiala hautatzerakoan, filmaren beraren erabileraz gain, honako gai hauek ere kontuan hartu behar dira:
1. Helburuko materialak erresistentzia mekaniko ona eta egonkortasun kimikoa izan behar ditu filma eratu ondoren
2. Helburuaren eta substratuaren konbinazioa sendoa izan behar da, bestela substratuak mintz-materialaren konbinazio ona badu, lehenik oinarrizko film bat ihinztatu eta gero beharrezko mintz-geruza prestatu behar da.
3 erreakzio gisa, sputtering bidezko mintz-materialak gasarekin erraz erreakzionatu behar du mintz-konposatuak sortzeko; 4.
4. Mintzaren errendimenduaren eskakizunak betetzeko premisaren arabera, helburu-materialaren hedapen termikoaren koefizientearen eta substratuaren arteko aldea ahalik eta txikiena da, tentsio termikoak ihinztatutako mintzean duen eragina minimizatzeko.
Sputtering-filmaren tentsio termikoaren eragina; 5.
5. Mintzaren erabilera eta errendimendu eskakizunen arabera, helburuko materialak purutasuna, ezpurutasun edukia, osagaien uniformetasuna, mekanizazio zehaztasuna eta beste eskakizun tekniko batzuk bete behar ditu.
–Artikulu hau argitaratu duhutsean estaltzeko makina fabrikatzaileaGuangdong Zhenhua
Argitaratze data: 2023ko abenduaren 21a