Die direkte Ionenstrahlverdampfung ist eine Art der ionenstrahlgestützten Abscheidung. Es handelt sich dabei um eine Ionenstrahlverdampfung ohne Massentrennung. Dieses Verfahren wurde erstmals 1971 zur Herstellung diamantartiger Kohlenstoffschichten eingesetzt, basierend auf dem Prinzip, dass der Hauptteil der Kathode und Anode der Ionenquelle aus Kohlenstoff besteht.
Das sensible Gas wird in die Entladungskammer geleitet und durch ein externes Magnetfeld unter Niederdruckbedingungen induziert. Dabei werden Kohlenstoffionen durch den Sputtereffekt der Ionen an den Elektroden erzeugt. Kohlenstoffionen und dichtere Ionen im Plasma werden gleichzeitig in die Beschichtungskammer eingeleitet und durch den negativen Vordruck auf dem Substrat beschleunigt, um auf dieses aufgebracht zu werden.
Die Testergebnisse zeigen, dass die Kohlenstoffionen mit einer Energie von 50 bis 100 eV beiZimmerBei der Herstellung von transparenten diamantähnlichen Kohlenstofffilmen auf Si, NaCl, KCl, Ni und anderen Substraten bei Temperaturen von bis zu 10 Ω·cm, mit einem Brechungsindex von etwa 2, sind sie unlöslich in anorganischen und organischen Säuren und weisen eine sehr hohe Härte auf.
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Veröffentlichungsdatum: 31. August 2023