डायरेक्ट आयन बीम डिपॉझिशन हा आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनचा एक प्रकार आहे. डायरेक्ट आयन बीम डिपॉझिशन हे नॉन-मास-सेपरेटेड आयन बीम डिपॉझिशन आहे. आयन सोर्सच्या कॅथोड आणि ॲनोडचा मुख्य भाग कार्बनचा बनलेला असतो, या तत्त्वावर आधारित हे तंत्रज्ञान सर्वप्रथम १९७१ मध्ये डायमंड-लाइक कार्बन फिल्म्स तयार करण्यासाठी वापरले गेले.
संवेद्य वायू डिस्चार्ज चेंबरमध्ये नेला जातो, आणि इलेक्ट्रोड्सवरील आयनांच्या स्पटरिंग प्रभावावर अवलंबून कार्बन आयन तयार करून, कमी दाबाच्या परिस्थितीत प्लाझ्मा डिस्चार्ज घडवून आणण्यासाठी बाह्य चुंबकीय क्षेत्र जोडले जाते. प्लाझ्मामधील कार्बन आयन आणि घन आयन एकाच वेळी डिपॉझिशन चेंबरमध्ये प्रेरित केले गेले, आणि सबस्ट्रेटवरील नकारात्मक बायस दाबामुळे त्यांना सबस्ट्रेटवर इंजेक्ट करण्यासाठी प्रवेगित केले गेले.
चाचणी निकालांवरून असे दिसून येते की ५०~१००eV ऊर्जा असलेले कार्बन आयनखोलीउच्च तापमानावर, Si, NaCl, KCI, Ni आणि इतर सब्सट्रेट्सवर पारदर्शक डायमंड-लाइक कार्बन फिल्म तयार केली जाते, जिची रोधकता 10Ω-cm इतकी जास्त, अपवर्तनांक सुमारे 2 असतो, आणि ती अजैविक व सेंद्रिय आम्लांमध्ये अविद्राव्य असून अत्यंत कठीण असते.
हा लेख यांनी प्रसिद्ध केला आहेव्हॅक्यूम कोटिंग मशीन उत्पादकग्वांगडोंग झेन्हुआ
पोस्ट करण्याची वेळ: ३१ ऑगस्ट २०२३