직접 이온빔 증착(DID)은 이온빔 보조 증착의 한 유형입니다. DID는 질량 분리가 필요 없는 이온빔 증착 방식입니다. 이 기술은 이온 소스의 음극과 양극의 주요 구성 요소가 탄소로 이루어져 있다는 원리를 기반으로 1971년 다이아몬드 유사 탄소(DLC) 박막을 제조하는 데 처음 사용되었습니다.
민감성 가스를 방전 챔버로 유도하고, 외부 자기장을 가하여 저압 조건에서 플라즈마 방전을 발생시킨다. 이때 전극 표면에서 이온의 스퍼터링 효과를 이용하여 탄소 이온을 생성한다. 생성된 탄소 이온과 플라즈마 내의 고밀도 이온은 동시에 증착 챔버로 유입되며, 기판에 가해지는 음의 바이어스 압력에 의해 가속되어 기판 위로 주입된다.
실험 결과에 따르면 50~100eV의 에너지를 가진 탄소 이온은 다음과 같은 결과를 보였습니다.방고온에서 Si, NaCl, KCl, Ni 등의 기판에 투명한 다이아몬드 유사 탄소 박막을 제조할 수 있으며, 이 박막은 저항률이 10Ω·cm에 달하고 굴절률이 약 2이며 무기산 및 유기산에 불용성이고 경도가 매우 높다.
이 기사는 다음에서 발표했습니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2023년 8월 31일