Die direkte Ionenstrahlabscheidung ist eine Form der ionenstrahlunterstützten Abscheidung. Die direkte Ionenstrahlabscheidung ist eine nicht-massenseparierte Ionenstrahlabscheidung. Diese Technik wurde erstmals 1971 zur Herstellung diamantähnlicher Kohlenstoffschichten eingesetzt. Sie basiert auf dem Prinzip, dass der Hauptteil der Kathode und Anode der Ionenquelle aus Kohlenstoff besteht.
Das sensible Gas wird in die Entladungskammer geleitet und durch ein externes Magnetfeld eine Plasmaentladung unter Niederdruckbedingungen erzeugt. Dabei wird der Sputtereffekt der Ionen auf den Elektroden genutzt, um Kohlenstoffionen zu erzeugen. Kohlenstoffionen und dichte Ionen im Plasma werden gleichzeitig in die Abscheidungskammer geleitet und durch den negativen Vordruck auf dem Substrat beschleunigt, um auf dieses injiziert zu werden.
Die Testergebnisse zeigen, dass die Kohlenstoffionen mit der Energie von 50~100eV beiZimmerTemperatur, in Si, NaCl, KCl, Ni und anderen Substraten zur Herstellung eines transparenten diamantähnlichen Kohlenstofffilms, spezifischer Widerstand so hoch wie 10Q-cm, Brechungsindex von etwa 2, unlöslich in anorganischen und organischen Säuren, haben eine sehr hohe Härte.
——Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsanlagenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungszeit: 31. August 2023