Cù u sviluppu crescente di a tecnulugia di rivestimentu per sputtering, in particulare a tecnulugia di rivestimentu per sputtering magnetron, attualmente, ogni materiale pò esse preparatu per mezu di un film di destinazione per bombardamentu ionicu, postu chì u bersagliu hè sputterizatu durante u prucessu di rivestimentu nantu à qualchì tipu di substratu, a qualità di u film sputterizatu hà un impattu impurtante, dunque, i requisiti di u materiale di destinazione sò ancu più severi. In a selezzione di u materiale di destinazione, in più di l'usu di u film stessu deve esse sceltu, si devenu ancu cunsiderà i seguenti prublemi:
1. U materiale di destinazione deve avè una bona resistenza meccanica è stabilità chimica dopu a furmazione di u filmu
2. A cumbinazione di u target è di u substratu deve esse forte, altrimenti si deve piglià cù u substratu chì hà una bona cumbinazione di materiale di membrana, prima sputtering una pellicola di basa è dopu a preparazione di u stratu di membrana necessariu.
3 cum'è una reazione, u materiale di a membrana di sputtering deve esse faciule da reagisce cù u gasu per generà cumposti di membrana; 4.
4. Sottu à a premessa di risponde à i requisiti di u rendiment di a membrana, a differenza trà u coefficientu di dilatazione termica di u materiale di destinazione è u substratu hè a più chjuca pussibule, in modu da minimizà l'effettu di u stress termicu nantu à a membrana sputterizzata.
L'influenza di a tensione termica di u film di sputtering; 5.
5. Sicondu i requisiti d'usu è di prestazione di a membrana, u materiale di destinazione deve risponde à a purezza, u cuntenutu d'impurità, l'uniformità di i cumpunenti, a precisione di machinazione è altri requisiti tecnichi.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 21 dicembre 2023