Uban sa nagkadaghang kalamboan sa sputtering coating teknolohiya, ilabi na sa magnetron sputtering coating teknolohiya, sa pagkakaron, alang sa bisan unsa nga materyal nga mahimong andam sa ion bombardment target film, tungod kay ang target mao ang sputtered sa proseso sa sapaw niini ngadto sa usa ka matang sa substrate, ang kalidad sa sputtered pelikula adunay usa ka importante nga epekto, busa, ang mga kinahanglanon sa target nga materyal mao usab ang mas estrikto. Sa pagpili sa target nga materyal, dugang pa sa paggamit sa pelikula sa iyang kaugalingon kinahanglan nga mapili, kinahanglan usab nga tagdon ang mosunod nga mga isyu:
1. Ang target nga materyal kinahanglan nga adunay maayo nga mekanikal nga kalig-on ug kemikal nga kalig-on human sa pagporma sa pelikula
2. Target ug substrate kombinasyon kinahanglan nga lig-on, kon dili kinahanglan nga gikuha uban sa substrate adunay usa ka maayo nga kombinasyon sa lamad nga materyal, una sputtering sa usa ka base pelikula ug unya ang pag-andam sa gikinahanglan nga lamad layer.
3 ingon sa usa ka reaksyon sputtering lamad nga materyal kinahanglan nga sayon sa reaksiyon sa gas sa pagmugna compounds lamad; 4.
4. Ubos sa pasiuna sa pagtagbo sa mga kinahanglanon sa performance sa lamad, ang kalainan tali sa coefficient sa thermal expansion sa target nga materyal ug sa substrate mao ang gamay nga kutob sa mahimo, aron mamenosan ang epekto sa thermal stress sa sputtered membrane.
Ang impluwensya sa thermal stress sa sputtering film; 5.
5. Sumala sa paggamit ug mga kinahanglanon sa performance sa lamad, ang target nga materyal kinahanglan nga makatagbo sa kaputli, kahugawan nga sulod, pagkaparehas sa sangkap, katukma sa machining ug uban pang teknikal nga mga kinahanglanon.
–Kini nga artikulo gipagawas nivacuum coating machine manufacturerGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Dis-21-2023