Amb el creixent desenvolupament de la tecnologia de recobriment per pulverització catòdica, especialment la tecnologia de recobriment per pulverització catòdica magnetrònica, actualment, qualsevol material pot ser preparat per a la pel·lícula objectiu mitjançant el bombardeig iònic, ja que l'objectiu es pulveritza durant el procés de recobriment sobre algun tipus de substrat, la qualitat de la pel·lícula pulveritzada té un impacte important, per tant, els requisits del material objectiu també són més estrictes. En la selecció del material objectiu, a més de l'ús de la pel·lícula en si, també s'han de tenir en compte els següents aspectes:
1. El material objectiu ha de tenir una bona resistència mecànica i estabilitat química després de la formació de la pel·lícula
2. La combinació de l'objectiu i el substrat ha de ser forta; en cas contrari, s'ha de prendre com a substrat una bona combinació de material de membrana, primer polvoritzant una pel·lícula base i després preparant la capa de membrana necessària.
3 com a material de membrana de pulverització catòdica de reacció, ha de ser fàcil de reaccionar amb el gas per generar compostos de membrana; 4.
4. Sota la premissa de complir els requisits de rendiment de la membrana, la diferència entre el coeficient d'expansió tèrmica del material objectiu i el substrat és el més petita possible, per tal de minimitzar l'efecte de la tensió tèrmica sobre la membrana polvoritzada.
La influència de la tensió tèrmica de la pel·lícula de pulverització catòdica; 5.
5. Segons els requisits d'ús i rendiment de la membrana, el material objectiu ha de complir la puresa, el contingut d'impureses, la uniformitat dels components, la precisió del mecanitzat i altres requisits tècnics.
–Aquest article ha estat publicat perfabricant de màquines de recobriment al buitGuangdong Zhenhua
Data de publicació: 21 de desembre de 2023