Күпчелек химик элементлар аларны химик төркемнәр белән берләштереп парланырга мөмкин, мәсәлән, Si H белән реакциядә SiH4, ә Al CH3 белән кушылып Al (CH3) барлыкка китерә. Cылылык CVD процессында, югарыдагы газлар җылытылган субстрат аша узып, CH3 һәм AL (CH3) 2 һ.б. кебек реактив төркемнәр барлыкка килгәндә билгеле күләмдә җылылык энергиясен үзләштерәләр, аннары алар бер-берсе белән берләшеп реактив төркемнәр ясыйлар, аннары субстратка урнаштыралар. Соңыннан, алар бер-берсе белән берләшәләр һәм нечкә фильмнар итеп урнаштыралар. PECVD очракта, плазмадагы электроннар, энергетик кисәкчәләр һәм газ фазалы молекулаларның бәрелеше бу реактив химик төркемнәрне формалаштыру өчен кирәк булган активлаштыру энергиясен тәэмин итә.
PECVD өстенлекләре, нигездә, түбәндәге аспектларда:
(1) Гадәттәге химик пар парламенты белән чагыштырганда түбән процесс температурасы, бу гадәттә җылыту активлашу урынына реактив кисәкчәләрнең плазма активлашуы белән бәйле;
(2) Гадәттәге CVD белән бер үк, кино катламының әйбәт әйберләре;
3) Кино катламының составы күпчелек дәрәҗәдә үзбилгеләнеп контрольдә тотыла, күпкатлы фильмнар алу җиңел;
(4) Кино стрессын югары / түбән ешлыклы катнашу технологиясе белән контрольдә тотарга мөмкин.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: 18-2024 апрель