Çoğu kimyasal element, kimyasal gruplarla birleştirilerek buharlaştırılabilir, örneğin Si, H ile reaksiyona girerek SiH4 oluşturur ve Al, CH3 ile birleşerek Al(CH3) oluşturur. Termal CVD işleminde, yukarıdaki gazlar ısıtılmış alt tabakadan geçerken belirli miktarda termal enerji emer ve CH3 ve AL(CH3)2 vb. gibi reaktif gruplar oluşturur. Daha sonra, alt tabaka üzerine biriktirilen reaktif grupları oluşturmak için birbirleriyle birleşirler. Daha sonra, birbirleriyle birleşirler ve ince filmler olarak biriktirilirler. PECVD durumunda, plazmadaki elektronların, enerjik parçacıkların ve gaz fazı moleküllerinin çarpışması, bu reaktif kimyasal grupları oluşturmak için gereken aktivasyon enerjisini sağlar.
PECVD’nin avantajları başlıca şu yönlerdendir:
(1) Geleneksel kimyasal buhar biriktirmeye kıyasla daha düşük işlem sıcaklığı, esas olarak geleneksel ısıtma aktivasyonu yerine reaktif parçacıkların plazma aktivasyonundan kaynaklanmaktadır;
(2) Geleneksel CVD ile aynı, film tabakasının iyi bir şekilde sarılması;
(3) Film tabakasının bileşimi büyük ölçüde keyfi olarak kontrol edilebilir ve bu da çok katmanlı filmlerin elde edilmesini kolaylaştırır;
(4) Film gerilimi yüksek/düşük frekanslı karıştırma teknolojisi ile kontrol edilebilir.
–Bu makale tarafından yayınlanmıştırvakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Gönderi zamanı: 18-Nis-2024