Koéfisién hawa résistansi pilem logam béda-béda sareng ketebalan pilem, film ipis négatip, pilem kandel positif, sareng film anu langkung kandel sami tapi henteu sami sareng bahan bulk. Sacara umum, koefisien suhu résistansi résistansi robih tina négatif ka positip nalika ketebalan pilem naék kana puluhan nanométer.
Salaku tambahan, laju évaporasi ogé mangaruhan koefisien suhu résistif film logam. Laju évaporasi low disiapkeun ku lapisan pilem téh leupas, éléktron sakuliah panghalang poténsi sarta kamampuhan pikeun ngahasilkeun konduktivitas lemah, gandeng ku oksidasi jeung adsorption, jadi nilai lalawanan tinggi, koefisien hawa lalawanan leutik, atawa malah négatip, jeung kanaékan laju évaporasi, koefisien suhu lalawanan tina résistansi tina robah leutik tina badag, ti négatip ka positif. Ieu alatan laju évaporasi low tina pilem disiapkeun alatan oksidasi sipat semikonduktor, koefisien hawa lalawanan tina nilai négatip. Film anu disiapkeun dina laju évaporasi anu luhur condong mibanda sipat logam sareng gaduh koefisien suhu lalawanan anu positif.
Kusabab struktur film robah irreversibly kalawan suhu, résistansi jeung lalawanan koefisien hawa pilem ogé robah kalawan suhu lapisan palapis salila évaporasi, sarta thinner film, beuki drastis parobahanana. Ieu bisa dianggap salaku hasil tina parobahan kimiawi disababkeun ku ulang évaporasi jeung redistribution partikel pulo perkiraan atawa pilem struktur tubular dina substrat, kitu ogé kisi scattering, impurity scattering, scattering of defects kisi, sarta oksidasi.
– Tulisan ieu dikaluarkeun kupembuatan mesin palapis vakumr Guangdong Zhenhua
waktos pos: Jan-18-2024