Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости отрасли
-
Улучшение качества магнетронного напыления с помощью источника питания на основе дугового разряда.
Магнетронное распыление покрытия осуществляется в тлеющем разряде, при низкой плотности тока разряда и низкой плотности плазмы в камере нанесения покрытия. Это обуславливает такие недостатки технологии магнетронного распыления, как низкая сила сцепления пленки с подложкой, низкая скорость ионизации металла и низкая скорость осаждения...Читать далее -
Использование радиочастотного разряда
1. Подходит для напыления и нанесения изоляционных пленок. Быстрое изменение полярности электрода позволяет напрямую напылять изоляционные мишени для получения изоляционных пленок. Если для напыления и нанесения изоляционной пленки используется источник постоянного тока, изоляционная пленка будет блокировать положительные ионы...Читать далее -
Технические характеристики вакуумно-испарительного нанесения покрытия
1. Процесс вакуумного напыления включает испарение пленочных материалов, транспортировку атомов пара в высоком вакууме, а также процесс зарождения и роста атомов пара на поверхности заготовки. 2. Степень вакуума осаждения при вакуумном напылении высока, как правило...Читать далее -
Виды твердых покрытий
Нитрид титана (TiN) — это первое твердое покрытие, используемое в режущих инструментах, обладающее такими преимуществами, как высокая прочность, высокая твердость и износостойкость. Это первый промышленный и широко используемый материал для твердых покрытий, применяемый в инструментах и пресс-формах с покрытием. Первоначально твердое покрытие TiN наносилось при температуре 1000 ℃...Читать далее -
Характеристики плазменной модификации поверхности
Высокоэнергетическая плазма может бомбардировать и облучать полимерные материалы, разрывая их молекулярные цепи, образуя активные группы, увеличивая поверхностную энергию и вызывая травление. Плазменная обработка поверхности не влияет на внутреннюю структуру и характеристики основного материала, а лишь существенно...Читать далее -
Процесс нанесения ионного покрытия с помощью маломощного дугового источника
Процесс нанесения ионного покрытия с использованием катодно-дугового источника в основном аналогичен другим технологиям нанесения покрытий, за исключением некоторых операций, таких как установка заготовок и вакуумная очистка. 1. Бомбардировочная очистка заготовок. Перед нанесением покрытия в камеру для нанесения покрытия подается аргон...Читать далее -
Характеристики и методы генерации потока дуговых электронов
1. Характеристики потока электронов в дуговом разряде. Плотность потока электронов, ионов и высокоэнергетических нейтральных атомов в дуговой плазме, генерируемой дуговым разрядом, значительно выше, чем в тлеющем разряде. В ней ионизировано больше газовых и металлических ионов, возбуждены высокоэнергетические атомы, и происходит активная фазовая реакция...Читать далее -
Области применения плазменной модификации поверхности
1) Плазменная модификация поверхности в основном относится к определенным модификациям бумаги, органических пленок, текстиля и химических волокон. Использование плазмы для модификации текстиля не требует применения активаторов, и процесс обработки не повреждает характеристики самих волокон. ...Читать далее -
Применение ионного покрытия в области оптических тонких пленок.
Области применения оптических тонких пленок очень широки и охватывают широкий спектр применений: от очков, объективов фотоаппаратов, камер мобильных телефонов, ЖК-экранов для мобильных телефонов, компьютеров и телевизоров, светодиодного освещения, биометрических устройств до энергосберегающих окон в автомобилях и зданиях, а также медицинских инструментов и т.д.Читать далее -
Пленки для информационных дисплеев и технология ионного покрытия
1. Типы пленок в информационных дисплеях. Помимо тонких пленок TFT-LCD и OLED, информационные дисплеи также включают в себя пленки для проводящих электродов и прозрачные пленки для пиксельных электродов в дисплейной панели. Процесс нанесения покрытия является ключевым процессом в TFT-LCD и OLED дисплеях. С непрерывным развитием...Читать далее -
Закон роста пленочного слоя, полученного методом вакуумного испарения.
В процессе нанесения покрытий методом вакуумного испарения зарождение и рост пленочного слоя являются основой различных технологий ионного нанесения покрытий. 1. Зарождение. В технологии нанесения покрытий методом вакуумного испарения, после испарения частиц пленочного слоя из источника испарения в виде атомов, они непосредственно перемещаются к поверхности...Читать далее -
Общие характеристики усовершенствованной технологии ионного покрытия тлеющим разрядом
1. Низкое смещение обрабатываемой детали. Из-за добавления устройства, увеличивающего скорость ионизации, плотность разрядного тока возрастает, а напряжение смещения снижается до 0,5–1 кВ. Обратное распыление, вызванное чрезмерной бомбардировкой высокоэнергетическими ионами, и разрушительное воздействие на поверхность обрабатываемой детали...Читать далее -
Преимущества цилиндрических мишеней
1) Цилиндрические мишени имеют более высокую степень использования, чем плоские. В процессе нанесения покрытия, будь то вращающаяся магнитная или вращающаяся трубчатая цилиндрическая мишень для магнетронного распыления, все части поверхности трубки мишени непрерывно проходят через зону распыления, создаваемую перед...Читать далее -
Процесс плазменной прямой полимеризации
Процесс плазменной прямой полимеризации. Процесс плазменной полимеризации относительно прост как для оборудования с внутренним электродом, так и для оборудования с внешним электродом, однако выбор параметров имеет большее значение в плазменной полимеризации, поскольку параметры оказывают значительное влияние...Читать далее -
Технология химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы, усиленной дуговым разрядом горячей проволоки
Технология химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы, усиленной дуговым разрядом горячей проволоки, использует дуговой разрядник с горячей проволокой для излучения дуговой плазмы, сокращенно называемая технологией PECVD с дуговым разрядом горячей проволоки. Эта технология аналогична технологии ионного нанесения покрытий с помощью дугового разрядника с горячей проволокой, но разница заключается в том, что твердая пленка, полученная путем...Читать далее
