1. Пленка вакуумного напыления очень тонкая (обычно 0,01-0,1 мкм). 2. Вакуумное напыление может применяться для многих видов пластика, таких как ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA и др. 3. Температура формирования пленки низкая. В металлургической промышленности температура горячего цинкования обычно составляет от 400 ℃ до...
После открытия фотоэлектрического эффекта в Европе в 1863 году, в 1883 году в Соединенных Штатах был создан первый фотоэлектрический элемент с использованием (Se)₂. На ранних этапах фотоэлектрические элементы в основном использовались в аэрокосмической, военной и других областях. За последние 20 лет произошло резкое снижение стоимости фотоэлектрических элементов...
1. Бомбардировочная очистка подложки 1.1) В установке для напыления используется тлеющий разряд для очистки подложки. То есть, в камеру подается аргон, напряжение разряда составляет около 1000 В. После включения питания генерируется тлеющий разряд, и подложка очищается...
Применение оптических тонких пленок в потребительской электронике, такой как мобильные телефоны, сместилось от традиционных объективов камер к более разнообразным направлениям, таким как объективы камер, защитные пленки для объективов, инфракрасные фильтры (IR-CUT) и покрытие NCVM на крышках аккумуляторных батарей мобильных телефонов. Спецификации камер...
Технология CVD-покрытия обладает следующими характеристиками: 1. Процесс работы CVD-оборудования относительно прост и гибок, и позволяет получать однослойные, композитные и сплавные пленки с различными пропорциями компонентов; 2. CVD-покрытие имеет широкий спектр применения и может использоваться для предварительной обработки...
Процесс нанесения покрытий в вакуумной установке подразделяется на: вакуумное напыление, вакуумное распыление и вакуумное ионное напыление. 1. Вакуумное напыление. В условиях вакуума происходит испарение материала, такого как металл, металлический сплав и т. д., после чего он наносится на поверхность подложки...
1. Что такое вакуумное нанесение покрытия? Какова его функция? Так называемый процесс вакуумного нанесения покрытия использует испарение и распыление в вакуумной среде для образования частиц пленочного материала, которые наносятся на металлические, стеклянные, керамические, полупроводниковые и пластиковые детали, образуя защитный слой для...
Поскольку вакуумное напылительное оборудование работает в вакуумных условиях, оно должно соответствовать требованиям вакуума для окружающей среды. В моей стране разработаны отраслевые стандарты для различных типов вакуумного напылительного оборудования (включая общие технические условия для вакуумного напылительного оборудования...).
Вакуумное ионное напыление (сокращенно ионное напыление) — это новая технология обработки поверхностей, быстро развивавшаяся в 1970-х годах. Она была предложена Д.М. Маттоксом из компании Somdia в США в 1963 году. Речь идет о процессе использования источника испарения или мишени для распыления с целью испарения или распыления...
① Антиотражающая пленка. Например, фотоаппараты, слайд-проекторы, проекторы, кинопроекторы, телескопы, смотровые стекла и однослойные пленки MgF, нанесенные на линзы и призмы различных оптических приборов, а также двухслойные или многослойные широкополосные антиотражающие пленки, состоящие из SiOFrO2, AlO, ...
① Хорошая управляемость и воспроизводимость толщины пленки. Возможность контролировать толщину пленки до заданного значения называется управляемостью толщины пленки. Возможность многократного повторения требуемой толщины пленки называется воспроизводимостью толщины пленки. Поскольку разряд...
Технология химического осаждения из газовой фазы (CVD) — это технология формирования пленок, которая использует нагрев, усиление плазмы, фотостимуляцию и другие методы для образования твердых пленок из газообразных веществ на поверхности подложки посредством химической реакции при нормальном или низком давлении. Как правило, реакция в...
1. Скорость испарения влияет на свойства напыляемого покрытия. Скорость испарения оказывает большое влияние на осажденную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная при низкой скорости осаждения, рыхлая и легко образует крупные частицы, целесообразно выбирать более высокую скорость испарения…
Оборудование для вакуумного напыления состоит из множества прецизионных деталей, изготовленных с помощью различных технологических процессов, таких как сварка, шлифовка, токарная обработка, строгание, расточка, фрезерование и т. д. В результате этих работ поверхность деталей оборудования неизбежно загрязняется различными веществами, такими как смазка...