Ang magnetron sputtering coating ay isinasagawa sa glow discharge, na may mababang discharge current density at mababang plasma density sa coating chamber. Dahil dito, ang teknolohiya ng magnetron sputtering ay may mga disbentaha tulad ng mababang film substrate bonding force, mababang metal ionization rate, at mababang deposition ra...
1. Kapaki-pakinabang para sa sputtering at plating insulation film. Ang mabilis na pagbabago sa polarity ng electrode ay maaaring gamitin upang direktang i-sput ang mga insulating target upang makakuha ng mga insulating film. Kung ang isang DC power source ay gagamitin upang i-sput at i-deposito ang insulation film, haharangan ng insulation film ang mga positive ions mula sa pagpasok...
1. Kasama sa proseso ng vacuum evaporation coating ang pagsingaw ng mga materyales sa pelikula, ang pagdadala ng mga atomo ng singaw sa mataas na vacuum, at ang proseso ng nucleation at paglaki ng mga atomo ng singaw sa ibabaw ng workpiece. 2. Mataas ang antas ng deposition vacuum ng vacuum evaporation coating, gener...
Ang TiN ang pinakamaagang matigas na patong na ginagamit sa mga kagamitang pangputol, na may mga bentahe tulad ng mataas na lakas, mataas na katigasan, at resistensya sa pagkasira. Ito ang unang industriyalisado at malawakang ginagamit na materyal para sa matigas na patong, na malawakang ginagamit sa mga kagamitang pinahiran at mga molde na pinahiran. Ang matigas na patong na TiN ay unang idineposito sa 1000 ℃...
Ang plasma na may mataas na enerhiya ay maaaring magpaulan at magpa-ilaw sa mga materyales na polimer, na pumuputol sa kanilang mga molekular na kadena, bumubuo ng mga aktibong grupo, nagpapataas ng enerhiya sa ibabaw, at lumilikha ng pag-ukit. Ang paggamot sa ibabaw ng plasma ay hindi nakakaapekto sa panloob na istruktura at pagganap ng bulk na materyal, ngunit malaki lamang ang epekto...
Ang proseso ng cathodic arc source ion coating ay halos kapareho ng ibang mga teknolohiya ng coating, at ang ilang mga operasyon tulad ng pag-install ng mga workpiece at pag-vacuum ay hindi na inuulit. 1. Paglilinis ng mga workpiece gamit ang pambobomba Bago ang coating, ang argon gas ay ipinapasok sa coating chamber gamit ang...
1. Mga Katangian ng Daloy ng Elektron sa Arc Light Ang densidad ng Daloy ng Elektron, Daloy ng Ion, at mga High-Energy Neutral na Ato sa Arc plasma na Nabubuo ng Arc Discharge ay Mas Mataas kaysa sa Glow Discharge. Mas Maraming Gas Ion at Metal Ion na Na-ionize, Excited High-Energy na Ato, at Iba't Ibang Aktibong Gro...
1) Ang pagbabago sa ibabaw ng plasma ay pangunahing tumutukoy sa ilang mga pagbabago sa papel, mga organikong pelikula, tela, at mga kemikal na hibla. Ang paggamit ng plasma para sa pagbabago sa tela ay hindi nangangailangan ng paggamit ng mga activator, at ang proseso ng paggamot ay hindi nakakasira sa mga katangian ng mga hibla mismo. ...
Malawak ang aplikasyon ng mga optical thin film, mula sa salamin, lente ng kamera, mga kamera ng mobile phone, mga LCD screen para sa mga mobile phone, computer, at telebisyon, mga LED lighting, mga biometric device, hanggang sa mga energy-saving windows sa mga sasakyan at gusali, pati na rin sa mga medikal na instrumento, mga...
1. Uri ng pelikula sa display ng impormasyon Bukod sa mga manipis na pelikulang TFT-LCD at OLED, kasama rin sa display ng impormasyon ang mga wiring electrode film at transparent pixel electrode film sa display panel. Ang proseso ng patong ang pangunahing proseso ng TFT-LCD at OLED display. Gamit ang patuloy na pag-usad...
Sa panahon ng evaporation coating, ang nucleation at paglaki ng film layer ang batayan ng iba't ibang teknolohiya ng ion coating 1. Nucleation Sa teknolohiya ng vacuum evaporation coating, pagkatapos ma-evaporate ang mga particle ng film layer mula sa pinagmumulan ng evaporation sa anyo ng mga atomo, direktang lumilipad ang mga ito patungo sa w...
1. Mababa ang bias ng workpiece. Dahil sa pagdaragdag ng isang aparato upang mapataas ang rate ng ionization, tumataas ang discharge current density, at ang bias voltage ay nababawasan sa 0.5~1kV. Ang backsputtering na dulot ng labis na pambobomba ng mga high-energy ion at ang epekto ng pinsala sa ibabaw ng workpiece...
1) Mas mataas ang antas ng paggamit ng mga cylindrical target kaysa sa mga planar target. Sa proseso ng patong, maging ito man ay rotary magnetic type o rotary tube type cylindrical sputtering target, lahat ng bahagi ng ibabaw ng target tube ay patuloy na dumadaan sa sputtering area na nabuo sa harap ng...
Proseso ng direktang polimerisasyon ng plasma Ang proseso ng polimerisasyon ng plasma ay medyo simple para sa parehong kagamitan sa polimerisasyon ng panloob na elektrod at kagamitan sa polimerisasyon ng panlabas na elektrod, ngunit ang pagpili ng parameter ay mas mahalaga sa polimerisasyon ng plasma, dahil ang mga parameter ay may higit na...
Ang teknolohiya ng hot wire arc enhanced plasma chemical vapor deposition ay gumagamit ng hot wire arc gun upang maglabas ng arc plasma, na pinaikli bilang hot wire arc PECVD technology. Ang teknolohiyang ito ay katulad ng hot wire arc gun ion coating technology, ngunit ang pagkakaiba ay ang solid film na nakukuha sa pamamagitan ng ho...