Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
page_banner

Новости отрасли

  • Характеристики плазменной модификации поверхности

    Характеристики плазменной модификации поверхности

    Высокоэнергетическая плазма может бомбардировать и облучать полимерные материалы, разрывая их молекулярные цепи, образуя активные группы, увеличивая поверхностную энергию и вызывая травление. Плазменная обработка поверхности не влияет на внутреннюю структуру и характеристики основного материала, а лишь существенно...
    Читать далее
  • Процесс нанесения ионного покрытия с помощью маломощного дугового источника

    Процесс нанесения ионного покрытия с помощью маломощного дугового источника

    Процесс нанесения ионного покрытия с использованием катодно-дугового источника в основном аналогичен другим технологиям нанесения покрытий, за исключением некоторых операций, таких как установка заготовок и вакуумная очистка. 1. Бомбардировочная очистка заготовок. Перед нанесением покрытия в камеру для нанесения покрытия подается аргон...
    Читать далее
  • Характеристики и методы генерации потока дуговых электронов

    Характеристики и методы генерации потока дуговых электронов

    1. Характеристики потока электронов в дуговом разряде. Плотность потока электронов, ионов и высокоэнергетических нейтральных атомов в дуговой плазме, генерируемой дуговым разрядом, значительно выше, чем в тлеющем разряде. В ней ионизировано больше газовых и металлических ионов, возбуждены высокоэнергетические атомы, и происходит активная фазовая реакция...
    Читать далее
  • Области применения плазменной модификации поверхности

    Области применения плазменной модификации поверхности

    1) Плазменная модификация поверхности в основном относится к определенным модификациям бумаги, органических пленок, текстиля и химических волокон. Использование плазмы для модификации текстиля не требует применения активаторов, и процесс обработки не повреждает характеристики самих волокон. ...
    Читать далее
  • Применение ионного покрытия в области оптических тонких пленок.

    Применение ионного покрытия в области оптических тонких пленок.

    Области применения оптических тонких пленок очень широки и охватывают широкий спектр применений: от очков, объективов фотоаппаратов, камер мобильных телефонов, ЖК-экранов для мобильных телефонов, компьютеров и телевизоров, светодиодного освещения, биометрических устройств до энергосберегающих окон в автомобилях и зданиях, а также медицинских инструментов и т.д.
    Читать далее
  • Пленки для информационных дисплеев и технология ионного покрытия

    Пленки для информационных дисплеев и технология ионного покрытия

    1. Типы пленок в информационных дисплеях. Помимо тонких пленок TFT-LCD и OLED, информационные дисплеи также включают в себя пленки для проводящих электродов и прозрачные пленки для пиксельных электродов в дисплейной панели. Процесс нанесения покрытия является ключевым процессом в TFT-LCD и OLED дисплеях. С непрерывным развитием...
    Читать далее
  • Закон роста пленочного слоя, полученного методом вакуумного испарения.

    Закон роста пленочного слоя, полученного методом вакуумного испарения.

    В процессе нанесения покрытий методом вакуумного испарения зарождение и рост пленочного слоя являются основой различных технологий ионного нанесения покрытий. 1. Зарождение. В технологии нанесения покрытий методом вакуумного испарения, после испарения частиц пленочного слоя из источника испарения в виде атомов, они непосредственно перемещаются к поверхности...
    Читать далее
  • Общие характеристики усовершенствованной технологии ионного покрытия тлеющим разрядом

    Общие характеристики усовершенствованной технологии ионного покрытия тлеющим разрядом

    1. Низкое смещение обрабатываемой детали. Из-за добавления устройства, увеличивающего скорость ионизации, плотность разрядного тока возрастает, а напряжение смещения снижается до 0,5–1 кВ. Обратное распыление, вызванное чрезмерной бомбардировкой высокоэнергетическими ионами, и разрушительное воздействие на поверхность обрабатываемой детали...
    Читать далее
  • Преимущества цилиндрических мишеней

    Преимущества цилиндрических мишеней

    1) Цилиндрические мишени имеют более высокую степень использования, чем плоские. В процессе нанесения покрытия, будь то вращающаяся магнитная или вращающаяся трубчатая цилиндрическая мишень для магнетронного распыления, все части поверхности трубки мишени непрерывно проходят через зону распыления, создаваемую перед...
    Читать далее
  • Процесс плазменной прямой полимеризации

    Процесс плазменной прямой полимеризации

    Процесс плазменной прямой полимеризации. Процесс плазменной полимеризации относительно прост как для оборудования с внутренним электродом, так и для оборудования с внешним электродом, однако выбор параметров имеет большее значение в плазменной полимеризации, поскольку параметры оказывают значительное влияние...
    Читать далее
  • Технология химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы, усиленной дуговым разрядом горячей проволоки

    Технология химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы, усиленной дуговым разрядом горячей проволоки

    Технология химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы, усиленной дуговым разрядом горячей проволоки, использует дуговой разрядник с горячей проволокой для излучения дуговой плазмы, сокращенно называемая технологией PECVD с дуговым разрядом горячей проволоки. Эта технология аналогична технологии ионного нанесения покрытий с помощью дугового разрядника с горячей проволокой, но разница заключается в том, что твердая пленка, полученная путем...
    Читать далее
  • Введение в традиционные методы нанесения твердых покрытий

    Введение в традиционные методы нанесения твердых покрытий

    1. Технология термического химического осаждения из газовой фазы (ТХХГ). Твердые покрытия в основном представляют собой металлокерамические покрытия (TiN и др.), которые образуются в результате реакции металла в покрытии и реактивной газификации. Первоначально технология термического химического осаждения из газовой фазы использовалась для обеспечения энергии активации реакции соединения за счет тепловой энергии при…
    Читать далее
  • Что такое покрытие источника, полученное методом резистивного испарения?

    Что такое покрытие источника, полученное методом резистивного испарения?

    Нанесение покрытия методом резистивного испарения — это базовый метод нанесения покрытий в вакууме. «Испарение» относится к методу получения тонкой пленки, при котором материал покрытия нагревается и испаряется в вакуумной камере, в результате чего атомы или молекулы материала испаряются и выходят наружу...
    Читать далее
  • Введение в технологию катодно-дугового ионного напыления

    Введение в технологию катодно-дугового ионного напыления

    Технология катодно-дугового ионного нанесения покрытий использует технологию холодного полевого дугового разряда. Первое применение технологии холодного полевого дугового разряда в области нанесения покрытий было осуществлено компанией Multi Arc Company в США. Английское название этой процедуры — дуговое ионное напыление (AIP). Катодно-дуговое ионное напыление...
    Читать далее
  • Применение оптических тонких пленок в производстве стекла с покрытием

    Применение оптических тонких пленок в производстве стекла с покрытием

    Существует множество типов подложек для очков и линз, таких как CR39, поликарбонат (PC), Trivex156 1.53, пластик со средним показателем преломления, стекло и т. д. Для корректирующих линз пропускание света как полимерными, так и стеклянными линзами составляет всего около 91%, и часть света отражается обратно двумя поверхностями...
    Читать далее