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업계 뉴스
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아크 방전 전원 공급 장치를 이용한 마그네트론 스퍼터링 코팅 성능 향상
마그네트론 스퍼터링 코팅은 글로우 방전 환경에서 수행되며, 코팅 챔버 내 방전 전류 밀도와 플라즈마 밀도가 낮습니다. 이로 인해 마그네트론 스퍼터링 기술은 박막-기판 접착력 저하, 금속 이온화율 저하, 증착 속도 저하 등의 단점을 가지고 있습니다.더 읽어보기 -
RF 방전의 활용
1. 절연막 스퍼터링 및 도금에 유리합니다. 전극 극성의 급격한 변화를 이용하여 절연 타겟을 직접 스퍼터링하여 절연막을 얻을 수 있습니다. 직류 전원을 사용하여 절연막을 스퍼터링 및 증착하면 절연막이 양이온의 침투를 차단합니다.더 읽어보기 -
진공 증착 코팅의 기술적 특성
1. 진공 증착 코팅 공정은 필름 재료의 증착, 고진공 상태에서의 증기 원자의 이동, 그리고 공작물 표면에서의 증기 원자의 핵 생성 및 성장 과정을 포함합니다. 2. 진공 증착 코팅의 증착 진공도는 높으며, 일반적으로...더 읽어보기 -
경질 코팅의 종류
TiN은 절삭 공구에 사용된 최초의 경질 코팅으로, 높은 강도, 경도 및 내마모성과 같은 장점을 가지고 있습니다. 산업화되어 널리 사용된 최초의 경질 코팅 소재이며, 코팅 공구 및 코팅 금형에 널리 사용됩니다. TiN 경질 코팅은 초기에는 1000℃에서 증착되었습니다...더 읽어보기 -
플라즈마 표면 개질의 특성
고에너지 플라즈마는 고분자 재료에 충격을 가하고 조사하여 분자 사슬을 끊고 활성기를 형성하며 표면 에너지를 증가시키고 에칭을 발생시킬 수 있습니다. 플라즈마 표면 처리는 벌크 재료의 내부 구조 및 성능에는 영향을 미치지 않지만 표면의 특정 부분만 크게 변화시킵니다.더 읽어보기 -
소형 아크 소스 이온 코팅 공정
음극 아크 소스 이온 코팅 공정은 기본적으로 다른 코팅 기술과 동일하며, 공작물 설치 및 진공 청소와 같은 일부 작업은 더 이상 반복되지 않습니다. 1. 공작물 충격 세척 코팅 전에 아르곤 가스를 코팅 챔버에 주입합니다...더 읽어보기 -
아크 전자 흐름의 특성 및 생성 방법
1. 아크 방전의 전자 흐름 특성 아크 방전에 의해 생성된 아크 플라즈마 내의 전자 흐름, 이온 흐름 및 고에너지 중성 원자의 밀도는 글로우 방전에 비해 훨씬 높습니다. 더 많은 기체 이온과 금속 이온이 이온화되고, 고에너지 원자가 여기되며, 다양한 활성 그룹이 존재합니다.더 읽어보기 -
플라즈마 표면 개질의 응용 분야
1) 플라즈마 표면 개질은 주로 종이, 유기 필름, 직물 및 화학 섬유의 특정 개질을 의미합니다. 직물 개질에 플라즈마를 사용하는 경우 활성제를 사용할 필요가 없으며, 처리 과정에서 섬유 자체의 특성이 손상되지 않습니다. ...더 읽어보기 -
광학 박막 분야에서의 이온 코팅의 응용
광학 박막의 응용 분야는 매우 광범위하며, 안경, 카메라 렌즈, 휴대폰 카메라, 휴대폰, 컴퓨터 및 텔레비전용 LCD 화면, LED 조명, 생체 인식 장치, 자동차 및 건물의 에너지 절약형 창문, 의료 기기 등에 이르기까지 다양합니다.더 읽어보기 -
정보 표시 필름 및 이온 코팅 기술
1. 정보 표시용 필름 종류 TFT-LCD 및 OLED 박막 외에도 정보 표시 패널에는 배선 전극 필름과 투명 픽셀 전극 필름이 사용됩니다. 코팅 공정은 TFT-LCD 및 OLED 디스플레이의 핵심 공정입니다. 지속적인 기술 발전과 함께...더 읽어보기 -
진공 증착 코팅 필름층의 성장 법칙
증발 코팅 과정에서, 박막층의 핵 생성 및 성장은 다양한 이온 코팅 기술의 기본 원리입니다. 1. 핵 생성: 진공 증발 코팅 기술에서, 박막층 입자는 증발원에서 원자 형태로 증발된 후, 직접 증착층으로 이동합니다...더 읽어보기 -
향상된 글로우 방전 이온 코팅 기술의 공통적인 특징
1. 낮은 공작물 바이어스: 이온화율을 증가시키는 장치를 추가함으로써 방전 전류 밀도가 증가하고 바이어스 전압이 0.5~1kV로 감소합니다. 고에너지 이온의 과도한 충격으로 인한 백스퍼터링과 공작물 표면 손상 효과가 발생합니다.더 읽어보기 -
원통형 표적의 장점
1) 원통형 타겟은 평면형 타겟보다 활용률이 높습니다. 코팅 공정에서 회전식 자기 타겟이든 회전식 튜브형 원통형 스퍼터링 타겟이든, 타겟 튜브 표면의 모든 부분이 앞쪽에 생성된 스퍼터링 영역을 연속적으로 통과합니다.더 읽어보기 -
플라즈마 직접 중합 공정
플라즈마 직접 중합 공정은 내부 전극 중합 장비와 외부 전극 중합 장비 모두에서 비교적 간단하지만, 플라즈마 중합에서는 매개변수 선택이 매우 중요합니다. 왜냐하면 매개변수가 결과에 큰 영향을 미치기 때문입니다.더 읽어보기 -
고온 와이어 아크 강화 플라즈마 화학 기상 증착 기술
고온 와이어 아크 강화 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD) 기술은 고온 와이어 아크 건을 사용하여 아크 플라즈마를 발생시키는 기술입니다. 이 기술은 고온 와이어 아크 건 이온 코팅 기술과 유사하지만, 고온 아크 건으로 얻은 고체 박막이 고온 아크에 의해 형성되는 것이 특징입니다.더 읽어보기
