Вакуум испарувачкиот слој (наречен evaporationcoating) е во вакуумска средина, испарувачот го загрева филмскиот материјал за да го направи гасифициран, филмскиот материјал испарува поток на честички директно на подлогата и таложење на подлогата, формирајќи технологија на цврст филм. Вакуум испарувањето е PVD технологија во развојот на најраните, пошироко користени градски филмски технологии, иако подоцнежниот развој на распрскување и јонско позлатување во многу аспекти од супериорноста на вакуум испарувањето, но вакуум испарувачкиот градски филмски технологии сè уште има многу предности, како што се опремата и процесот се релативно едноставни, и таложењето на многу чист филм, но исто така може да се подготви со специфична структура и својства на филмскиот слој итн. Главните недостатоци на овој метод се тоа што не е лесно да се добијат филмови со кристална структура, адхезијата на филмот на подлогата е мала, а повторувањето на процесот не е доволно добро.
Во последниве години, поради испарувањето со електронско бомбардирање, високофреквентното индуктивно испарување, како и ласерското испарување и други технологии во технологијата за вакуумско испарување, технологијата за обложување е во општа примена, така што оваа технологија е посовршена и широко се користи во машините, електричните вакуумски системи, радио, оптика, атомската енергија и други технологии.
Време на објавување: 17 август 2023 година