Ao amin'ny teknolojian'ny coating banga, ny fisian'nyentona sisa tavela ao anatin'ny efitrano fametrahanaMety hisy fiantraikany lehibe amin'ny toetra ara-drafitra, optika ary mekanika amin'ny sarimihetsika manify. Na ao anatin'ny dingana PVD, magnetron sputtering, ALD, na PECVD, ny karazana entona sisa tavela—anisan'izany ny etona rano, oksizenina, azota ary hydrocarbons—dia mifandray amin'ny sarimihetsika mitombo sy ny tontolo plasma, ka misy fiantraikany amin'ny stoichiometry sarimihetsika, ny hakitroky, ny adhesion ary ny fahombiazan'ny optika.
Anisan'ny loto tena mampidi-doza indrindra ny etona rano sisa tavela. Ao amin'ny fametrahana sarimihetsika oksida na nitrida, na dia kely fotsiny aza ny hamandoana dia mety hiteraka fihetsehana hydrolysis na oksidasiona tsy voafehy eo amin'ny velaran'ny substrate, ka manova ny stoichiometry kasaina hatao amin'ny sosona napetraka. Izany dia miteraka fitomboan'ny porosity, fihenan'ny index refractive, ary fihenan'ny mangarahara optika na ny taratra. Toy izany koa, ny hydrocarbons nampidirina avy amin'ny menaka paompy, rindrin'ny efitrano, na tsingerin'ny fanodinana teo aloha dia mety hiditra ao amin'ny matrix sarimihetsika, ka miteraka foibe fidiran'ny rano, toerana miparitaka, na lesoka izay mampihena ny fitoviana amin'ny sarimihetsika sy ny fahombiazan'ny fiasa.
Ao anatin'ny dingana "reactive sputtering", ny oksizenina na azota sisa tavela dia afaka manova ny simia amin'ny velaran'ny zavatra kendrena, ka miteraka fanapoizinana amin'ny zavatra kendrena. Io trangan-javatra io dia manova ny vokatra sputter, ny toetran'ny plasma, ary ny tahan'ny fametrahana, ka miteraka hatevina tsy mitovy, fiovaovan'ny tsy miovaova optika, ary toetra mekanika simba toy ny hamafin'ny na ny adhesion. Miharihary indrindra ny vokany amin'ny coatings multilayer avo lenta, izay mety hanelingelina ny fahombiazan'ny spectral ny fivilian-dàlana kely amin'ny refractive index na ny absorption.
Ankoatra izany, ny tsindry sy ny firafitry ny entona sisa tavela dia misy fiantraikany amin'ny fahamarinan'ny plasma sy ny fizarana angovo. Ny fiovaovan'ny tsindrin'ny efitrano dia manova ny dinamikan'ny ionisation, ny lalan-kizorana malalaka antonony, ary ny angovon'ny poti-javatra, izay misy fiantraikany amin'ny fanamafisana ny sarimihetsika, ny haratsian'ny velarana, ary ny firafitry ny voa. Ny fahalotoana amin'ny tsindry ambany dia mety hampihena ny fahombiazan'ny fametrahana, raha toa kosa ny tsindry ampahany avoakan'ny entona mihetsika dia afaka manafaingana ny fihetsika simika tsy ilaina, ka mamokatra sarimihetsika tsy stoichiometrika na mampitombo ny adin-tsaina anatiny.
Mba hampihenana ireo fiantraikany ireo, ny rafitra fandrakofana banga dia mampiditra fanomanana henjana amin'ny efitrano sy fanaraha-maso mivantana. Ny paompy banga avo lenta, anisan'izany ny paompy turbomolecular sy cryogenic, miaraka amin'ny fanendasana efitrano lalina sy ny fitsaboana mialoha ny substrate, dia mampihena ny haavon'ny entona sisa tavela. Ny mpandinika entona sisa tavela (RGA) dia manome valin-kafatra mitohy momba ny firafitry ny entona, ahafahana mifehy tsara ny fikorianan'ny entona mihetsika, ny masontsivana plasma, ary ny tontolo fametrahana. Ireo fepetra ireo dia miantoka fa ny sarimihetsika manify dia mahatratra ny tsy miovaova optika noforonina, ny tsy fivadihana mekanika, ary ny fahamarinan-toerana maharitra.
Raha fintinina, ny entona sisa tavela dia singa tena ilaina amin'ny famaritana ny kalitaon'ny sarimihetsika manify amin'ny fizotran'ny coating banga. Ny fiantraikan'izy ireo dia mivelatra amin'ny firafitry ny simika, ny rafitra bitika, ny fahombiazan'ny optika, ary ny toetra mekanika. Ny fanaraha-maso mahomby ny votoatin'ny entona sisa tavela amin'ny alàlan'ny teknolojia banga mandroso, ny fanaraha-maso ny dingana, ary ny fanomanana ny efitrano dia tena ilaina mba hahazoana coating azo averina sy mahomby amin'ny fampiharana indostrialy isan-karazany, manomboka amin'ny singa optika sy fitaovana fampisehoana ka hatramin'ny sarimihetsika fiarovana miasa.
-Navoakan'nympanamboatra fitaovana fanosotra bangaZhenhua Vacuum
Fotoana fandefasana: 10 Martsa 2026