Вакуумдық жабу технологияларында, болуытұндыру камерасындағы қалдық газдаржұқа қабықшалардың құрылымдық, оптикалық және механикалық қасиеттеріне айтарлықтай әсер етуі мүмкін. PVD, магнетронды тозаңдату, ALD немесе PECVD процестерінде қалдық газ түрлері, соның ішінде су буы, оттегі, азот және көмірсутектер өсіп келе жатқан қабықшамен және плазмалық ортамен әрекеттеседі, бұл қабықшаның стехиометриясына, тығыздығына, адгезиясына және оптикалық өнімділігіне әсер етеді.
Қалдық су буы ең маңызды ластаушы заттардың бірі болып табылады. Оксид немесе нитрид пленкасының тұнбасында ылғалдың аз мөлшері де субстрат бетінде бақыланбайтын гидролизге немесе тотығу реакцияларына әкелуі мүмкін, бұл тұнба қабатының мақсатты стехиометриясын өзгертеді. Бұл кеуектіліктің жоғарылауына, сыну көрсеткішінің төмендеуіне және оптикалық мөлдірліктің немесе шағылыстырудың нашарлауына әкеледі. Сол сияқты, сорғы майларынан, камера қабырғаларынан немесе алдыңғы өңдеу циклдерінен енгізілген көмірсутектер пленка матрицасына еніп, жұту орталықтарын, шашыраңқы жерлерді немесе пленканың біркелкілігі мен функционалдық өнімділігін төмендететін ақауларды тудыруы мүмкін.
Реактивті тозаңдату процестерінде қалдық оттегі немесе азот нысана бетінің химиялық құрамын өзгертіп, нысананың улануына әкелуі мүмкін. Бұл құбылыс тозаңдату өнімділігін, плазма сипаттамаларын және тұндыру жылдамдығын өзгертеді, бұл қалыңдықтың біркелкі болмауына, оптикалық тұрақтылардың өзгеруіне және қаттылық немесе адгезия сияқты механикалық қасиеттердің бұзылуына әкеледі. Әсерлері әсіресе жоғары дәлдіктегі көп қабатты жабындарда айқын көрінеді, мұнда сыну көрсеткішіндегі немесе сіңірілудегі шамалы ауытқулар спектрлік өнімділікті бұзуы мүмкін.
Сонымен қатар, қалдық газ қысымы мен құрамы плазманың тұрақтылығына және энергияның таралуына әсер етеді. Камера қысымының ауытқулары иондану динамикасын, орташа еркін жол ұзындығын және бөлшектер энергиясын өзгертеді, қабықшаның тығыздалуына, бетінің кедір-бұдырлығына және түйіршік құрылымына әсер етеді. Төмен қысымды ластану тұндыру тиімділігін төмендетуі мүмкін, ал реактивті газдардың парциалды қысымының жоғарылауы қажетсіз химиялық реакцияларды жеделдетіп, стехиометриялық емес қабықшалар түзуі немесе ішкі кернеуді арттыруы мүмкін.
Бұл әсерлерді азайту үшін вакуумдық жабын жүйелері камераны мұқият дайындауды және нақты уақыт режимінде бақылауды біріктіреді. Турбомолекулалық және криогендік сорғыларды қоса алғанда, ультра жоғары вакуумдық сорғы камераны мұқият пісіру және субстратты алдын ала өңдеумен бірге қалдық газ деңгейін төмендетеді. In-situ қалдық газ анализаторлары (RGA) газ құрамы бойынша үздіксіз кері байланыс береді, бұл реактивті газ ағынын, плазма параметрлерін және тұндыру ортасын дәл басқаруға мүмкіндік береді. Бұл шаралар жұқа қабықшалардың жобаланған оптикалық тұрақтыларға, механикалық тұтастыққа және ұзақ мерзімді тұрақтылыққа жетуін қамтамасыз етеді.
Қорытындылай келе, қалдық газдар вакуумдық жабын процестерінде жұқа қабықша сапасын анықтауда маңызды фактор болып табылады. Олардың әсері химиялық құрамға, микроқұрылымға, оптикалық өнімділікке және механикалық қасиеттерге әсер етеді. Оптикалық компоненттер мен дисплей құрылғыларынан бастап функционалды қорғаныс қабықшаларына дейін әртүрлі өнеркәсіптік қолданбаларда қайталанатын, жоғары өнімді жабындарға қол жеткізу үшін озық вакуумдық технология, процесті бақылау және камераны дайындау арқылы қалдық газ мөлшерін тиімді бақылау өте маңызды.
- Бұл мақаланы жариялағанвакуумдық жабын жабдықтарын өндірушіЧжэньхуа шаңсорғышы
Жарияланған уақыты: 2026 жылғы 10 наурыз