Pleraque elementa chemica vaporizari possunt per combinationem cum gregibus chemicis, exempli gratia Si cum H reagit ad SiH4 formandum, et Al cum CH3 coniungitur ad Al(CH3) formandum. In processu CVD thermali, gases supradicti certam energiae thermalis quantitatem absorbent dum per substratum calefactum transeunt et greges reactivos formant, ut CH3 et AL(CH3)2, etc. Deinde inter se coniunguntur ad greges reactivos formandos, qui deinde in substrato deponuntur. Postea, inter se coniunguntur et ut tenues membranae deponuntur. In casu PECVD, collisio electronum, particularum energeticarum et molecularum phasis gaseosae in plasma energiam activationis praebet quae necessaria est ad hos greges chemicos reactivos formandos.
Commoda PECVD in his praecipue aspectibus consistunt:
(1) Temperatura processus inferior comparata cum depositione vaporis chemici conventionali, quae praecipue ob activationem plasmatis particularum reactivarum loco activationis calefactionis conventionalis oritur;
(2) Idem ac CVD usitatum, bene circumvolutio strati pelliculae;
(3) Compositio strati pelliculae magna ex parte arbitrio regi potest, quo facilius pelliculas multistratas obtineri possunt;
(4) Tensio pelliculae per technologiam mixtionis altae/humilis frequentiae regi potest.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XVIII Aprilis MMXXIV