Coefficiens temperaturae resistentiae pelliculae metallicae variat cum crassitudine pelliculae; pelliculae tenues negativae sunt, pelliculae crassae positivae, et pelliculae crassiores similes sunt sed non identicae materiis solidis. In genere, coefficiens temperaturae resistentiae mutatur a negativo ad positivum cum crassitudo pelliculae ad decem nanometra crescit.
Praeterea, celeritas evaporationis etiam coefficientem temperaturae resistentiae pellicularum metallicarum afficit. Cum pellicula laxa sit, evaporatio parva et electrones trans limitem potentialem transire possunt, et facultas conductivitatem producendi debilis est, quae cum oxidatione et adsorptione coniuncta est, resistentia etiam alta et coefficiens temperaturae resistentiae parvus, vel etiam negativus, mutatur. Cum evaporatio augeatur, coefficiens temperaturae resistentiae parvus a magno a negativo ad positivum mutatur. Hoc propter evaporationis parvam pelliculae praeparatae, quae propter oxidationem proprietatum semiconductorum et coefficientem temperaturae resistentiae negativum habet, fit. Pelliculae evaporationis magnae et proprietates metallicas et coefficientem temperaturae resistentiae positivum habere solent.
Cum structura pelliculae irreversibiliter cum temperatura mutetur, resistentia et coefficiens resistentiae temperaturae pelliculae etiam cum temperatura strati tegumenti durante evaporatione mutantur, et quo tenuior pellicula, eo vehementior mutatio. Hoc considerari potest ut effectus mutationum chemicarum causatarum a reevaporatione et redistributione particularum pelliculae structurae insularis vel tubularis approximatae in substrato, necnon dispersione clathri, dispersione impuritatum, dispersione vitiorum clathri, et oxidatione.
–Hic articulus editus est abfabricatio machinae ad obducendum vacuumr Guangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XVIII Ianuarii MMXXIV