Depozkirina rasterast a tîrêjên îyonî cureyek ji depozkirina bi alîkariya tîrêjên îyonî ye. Depozkirina rasterast a tîrêjên îyonî depozkirinek tîrêjên îyonî ye ku ji hêla girseyê ve nayê veqetandin. Ev teknîk cara yekem di sala 1971-an de ji bo hilberandina fîlmên karbonê yên mîna elmasê hate bikar anîn, li ser bingeha prensîba ku beşa sereke ya katod û anodê çavkaniya îyonê ji karbonê pêk tê.
Gaza maqûl tê ber bi odeya derxistinê ve, û zeviyeke magnetîkî ya derveyî tê zêdekirin da ku di bin şert û mercên zexta nizm de derxistina plazmayê çêbike, ku bi bandora sputterkirina iyonan li ser elektrodan ve girêdayî ye da ku iyonên karbonê hilberîne. Iyonên karbonê û iyonên tîr ên di plazmayê de di heman demê de hatin kişandin nav odeya danînê, û ji ber zexta alîgiriya neyînî ya li ser substratê ew lez kirin da ku li ser substratê werin derzîkirin.
Encamên ceribandinê nîşan didin ku îyonên karbonê bi enerjiya 50~100eV lijûregermahî, di Si, NaCI, KCI, Ni û substratên din de li ser amadekirina fîlima karbonê ya zelal a mîna elmasê, berxwedan bi qasî 10Q-cm bilind e, rêjeya şikestinê nêzîkî 2 e, di asîdên neorganîk û organîk de nayê çareser kirin, xwedî hişkbûnek pir zêde ye.
——Ev gotar ji hêlaçêkerê makîneya boyaxkirina valahiyêGuangdong Zhenhua
Dema şandinê: 31ê Tebaxa 2023an