Deposisi berkas ion langsung merupakan salah satu jenis deposisi yang dibantu berkas ion. Deposisi berkas ion langsung merupakan deposisi berkas ion yang tidak dipisahkan massanya. Teknik ini pertama kali digunakan untuk menghasilkan lapisan karbon seperti berlian pada tahun 1971, berdasarkan prinsip bahwa bagian utama katode dan anoda sumber ion terbuat dari karbon.
Gas yang peka dialirkan ke ruang pelepasan, dan medan magnet eksternal ditambahkan untuk menyebabkan pelepasan plasma dalam kondisi tekanan rendah, mengandalkan efek sputtering ion pada elektroda untuk menghasilkan ion karbon. Ion karbon dan ion padat dalam plasma diinduksi ke dalam ruang pengendapan pada saat yang sama, dan dipercepat untuk disuntikkan ke substrat karena tekanan bias negatif pada substrat.
Hasil pengujian menunjukkan bahwa ion karbon dengan energi 50~100eV padaruangsuhu, dalam Si, NaCI, KCI, Ni dan substrat lainnya pada persiapan film karbon seperti berlian transparan, resistivitas setinggi 10Q-cm, indeks bias sekitar 2, tidak larut dalam asam anorganik dan organik, memiliki kekerasan yang sangat tinggi.
——Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 31-Agu-2023