ડાયરેક્ટ આયન બીમ ડિપોઝિશન એ આયન બીમ સહાયિત ડિપોઝિશનનો એક પ્રકાર છે. ડાયરેક્ટ આયન બીમ ડિપોઝિશન એ બિન-દળ-વિભાજિત આયન બીમ ડિપોઝિશન છે. આ તકનીકનો ઉપયોગ સૌપ્રથમ 1971 માં હીરા જેવી કાર્બન ફિલ્મ બનાવવા માટે કરવામાં આવ્યો હતો, જે આયન સ્ત્રોતના કેથોડ અને એનોડનો મુખ્ય ભાગ કાર્બનથી બનેલો છે તે સિદ્ધાંત પર આધારિત હતો.
સંવેદનશીલ ગેસને ડિસ્ચાર્જ ચેમ્બરમાં લઈ જવામાં આવે છે, અને કાર્બન આયનો ઉત્પન્ન કરવા માટે ઇલેક્ટ્રોડ પર આયનોના સ્પટરિંગ અસર પર આધાર રાખીને, ઓછા દબાણની સ્થિતિમાં પ્લાઝ્મા ડિસ્ચાર્જ માટે બાહ્ય ચુંબકીય ક્ષેત્ર ઉમેરવામાં આવે છે. પ્લાઝ્મામાં કાર્બન આયનો અને ઘન આયનો એક જ સમયે ડિપોઝિશન ચેમ્બરમાં પ્રેરિત કરવામાં આવ્યા હતા, અને સબસ્ટ્રેટ પર નકારાત્મક પૂર્વગ્રહ દબાણને કારણે તેમને સબસ્ટ્રેટ પર ઇન્જેક્ટ કરવા માટે ઝડપી બનાવવામાં આવ્યા હતા.
પરીક્ષણ પરિણામો દર્શાવે છે કે 50~100eV ની ઊર્જા સાથે કાર્બન આયનોરૂમપારદર્શક હીરા જેવી કાર્બન ફિલ્મની તૈયારી પર Si, NaCI, KCI, Ni અને અન્ય સબસ્ટ્રેટમાં તાપમાન, 10Q-cm જેટલી ઊંચી પ્રતિકારકતા, લગભગ 2 નો રીફ્રેક્ટિવ ઇન્ડેક્સ, અકાર્બનિક અને કાર્બનિક એસિડમાં અદ્રાવ્ય, ખૂબ જ ઊંચી કઠિનતા ધરાવે છે.
——આ લેખ પ્રકાશિત થયો છેવેક્યુમ કોટિંગ મશીન ઉત્પાદકગુઆંગડોંગ ઝેન્હુઆ
પોસ્ટ સમય: ઓગસ્ટ-૩૧-૨૦૨૩